Accelerating Beyond the Limits of Scaling
The future of technology is being shaped by the increasing prevalence of electronic devices, from smartphones and tablets to computers and gaming systems. The push for artificial intelligence (AI) is driving the need for more efficient and powerful processing hardware and demanding new semiconductor architectures.
Advanced packaging is a key enabler for overcoming traditional scaling limits and meeting future computing needs. In addition to shrinking transistors, chipmakers are looking beyond the chip into diverse packaging architectures that enhance processing power, memory, speed, and energy efficiency through 3D integration and chiplet technologies.
A pivotal moment for
advanced packaging
Advanced packaging technologies and chiplet designs are essential for meeting the demands of next-generation devices in our technological future. Without solving for today’s advanced packaging challenges, the AI revolution will stall just as it begins to transform the industry.
Without continued advancement in advanced packaging technologies, industries counting on AI-driven transformation—from healthcare to transportation to energy—will see their innovation roadmaps extended by years, not quarters.
This pivotal moment will determine how quickly humanity can solve its most pressing problems through computational advances. The ability to overcome today’s advanced packaging hurdles will directly impact our capacity to develop life-saving medical treatments, create sustainable energy solutions, and build intelligent systems that will define our future prosperity.
How Lam Research is driving innovation with velocity
From plating to etch, advanced packaging requires extreme precision at each step of the chipmaking process. Lam’s approach leverages our decades of leadership in etch and deposition to deliver best-in-class products that allow our customers to build next generation chips with unmatched precision, performance and speed.
Lam’s advanced packaging portfolio centers on three critical innovation areas that address the semiconductor industry’s most pressing challenges:
- Large-Format Package Interconnect Leadership: Enabling larger AI packages—scaling from 3.3x to 5.5x to 9x reticle size—across both wafer and panel platforms to meet the growing demands of high-performance computing.
- High-Yield Die-to-Wafer (D2W) Assembly: Driving innovations in materials and process solutions for increasingly critical applications in die-to-wafer bonding that enable advanced memory and logic scaling.
- Novel Wafer Shape/Stress Management: Pioneering solutions for 3D wafer-on-wafer (3D-WoW) stacking that address critical challenges in wafer bowing, twisting, and bond integrity.
Our Solutions
Lam’s advanced packaging portfolio enables more powerful AI accelerators to
- Overcome the memory wall
- Support increased I/O count
- Allow for more energy-efficient computing
—all while maintaining reliability and yield essential for commercial success.
Our advanced packaging solutions deliver superior technical performance across all critical parameters: uniformity, yield, process control, and throughput. With industry-leading metrology integration and process capabilities, Lam tools provide the precision and reliability required for today’s most challenging packaging applications.
WETS Product Line
Delivering leading solutions in electroplating and wet processing including photoresist strip, etch and clean
DV-PRIME UND DA VINCI
Produktfamilie
Wet Clean
Diese Produkte bieten die Prozessflexibilität, die bei hoher Produktivität erforderlich ist, um mehrere Waferreinigungsschritte in der gesamten Fertigung abzudecken.
SP-SERIE Produktfamilie
Wet Clean
Diese bewährte Produktfamilie bietet zuverlässige, kostengünstige Nassreinigungs- / Nassätzlösungen, mit denen unerwünschte Materialien vorsichtig vom Wafer entfernt werden.
SABRE Produktfamilie
Elektrochemische Abscheidung (ECD)
Diese Produktfamilie bietet auf der produktivitätsführenden ECD-Plattform der Branche Präzisionsmetallisierung für die Kupfer-Damascene-Herstellung.
SABRE 3D Produktfamilie
Elektrochemische Abscheidung (ECD)
Dank unserer bewährten Electrofill-Technologie liefern diese hochproduktiven Systeme hochwertige Metallfolien für moderne Verpackungsanwendungen.
Dry Etch Solutions
High-productivity solutions to overcome technically challenging requirements in advanced packaging, such as high-aspect -ratio etch (TSV, TDV & TGV) and plasma dicing
FLEX PRODUKTFAMILIE
Atomic Layer Etch (ALE) Kryogenes Ätzen Reaktive Ionenätzung (RIE)
Die dielektrischen Ätzsysteme von Lam bieten anwendungsorientierte Funktionen zum Erstellen einer Vielzahl anspruchsvoller Strukturen in modernen Geräten.
GAMMA Produktfamilie
Dry Strip
Diese Produkte bieten die Prozessflexibilität, die erforderlich ist, um ein breites Spektrum kritischer Photoresiststreifenanwendungen abzudecken.
Kiyo PRODUKTFAMILIE
Reaktive Ionenätzung (RIE)
Diese marktführenden Leiterätzungsprodukte bieten höchste Präzision und Kontrolle bei hoher Produktivität, die für kritische Gerätefunktionen erforderlich sind.
Syndion-Produktfamilie
Reaktive Ionenätzung (RIE) Tiefe reaktive Ionenätzung (DRIE)
Für Tiefenätzanwendungen bietet diese Produktfamilie die außergewöhnliche Wafer-zu-Wafer-Gleichmäßigkeit, die für kritische Features mit hohem Querschnittsverhältnis unabdingbar ist.
Dielectric and Metal Deposition
Differentiated solutions for PECVD, ALD, and CVD metals. Enabling various film requirements for advanced packaging, including high-bond- strength dielectric, high quality inter-die gapfill film, and film stress tunability for wafer stress and shape management
STRIKER Produktfamilie
Atomlagenabscheidung (ALD)
Mit der fortschrittlichen ALD-Technologie liefern diese Produkte dielektrische Filme mit hervorragender Kontrolle für kritische Prozesse in fortschrittlichen Geräten mit Nanomaßstab.
Vector Produktfamilie
Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD)
Unsere PECVD-Produktfamilie ermöglicht eine präzise dielektrische Filmabscheidung bei hoher Produktivität für eine Vielzahl von Anwendungen.
ALTUS Produktfamilie
Atomlagenabscheidung (ALD) Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
Durch die Kombination von CVD- und ALD-Technologien tragen diese marktführenden Systeme in hohem Grad konforme Metallschichten für moderne Wolfram-Metallbeschichtungsanwendungen auf.
Yield Improvement and Process Control
Innovative solutions to overcome challenges of emerging advanced packaging applications, such as wafer bevel management for wafer-to-wafer bonding yield improvement and high- throughput process control capability with mass metrology
CORONUS Produktfamilie
Plasma Bevel Etch and Deposition
Der Schwerpunkt der Coronus-Systeme liegt auf der Schrägkante und damit auf der Verbesserung der Ausbeute insgesamt. Die Halbleiterverarbeitung kann das Anhäufen von Rückständen sowie die Entstehung rauer Oberflächen entlang dem Waferrand bewirken, von dem aus die Rückstände abblättern, in andere Bereiche abdriften und Defekte verursachen können, die einen Geräteausfall zur Folge haben. Coronus-Ätzprodukte entfernen diese Rückstände auf den Rändern und Coronus Deposition schützt den Waferrand vor Beschädigungen.
METRYX PRODUKTFAMILIE
Mass Metrology
Unsere Massemesssysteme bieten Messmöglichkeiten im Milligrammbereich für erweiterte Prozessüberwachung und Steuerung dreidimensionaler Gerätestrukturen.
Panel Processing Solutions
Transferring wafer-level processing technology, performance, and production yield, to panel-level processing. Delivering differentiated solutions for wet panel processing, such as Cu RDL, micro-bump, TGV and Cu build-up electroplating, PR/PI strip/develop, etch, roughening, and clean.
Kallisto-Produktfamilie
Elektrochemische Abscheidung (ECD)
Eine fortschrittliche vertikale Prozessplattform für die nasschemische Behandlung von Substraten von 300 x 300 mm bis hin zu Gen 5.1 (1100 x 1300 mm), die auf die Bedürfnisse der Halbleiterindustrie zugeschnitten ist.
Phoenix-Produktfamilie
Elektrochemische Abscheidung (ECD) Fotolack-Entwicklung Fotolack-Strippen Nassreinigung/Strippen/Ätzen
Phoenix bietet eine vollautomatische, hochvolumige Plattenverarbeitung für 510×515 mm große Substrate an.
Additional Resources
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Lam Research Introduces VECTOR TEOS 3D to Address Critical Advanced Packaging Challenges in Chipmaking
September 9, 2025 -
Everything You Need to Know About VECTOR TEOS 3D
September 9, 2025