Technology: Atomlagenabscheidung (ALD)
ALTUS Produktfamilie
Atomlagenabscheidung (ALD) Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
Durch die Kombination von CVD- und ALD-Technologien tragen diese marktführenden Systeme in hohem Grad konforme Metallschichten für moderne Wolfram-Metallbeschichtungsanwendungen auf.
STRIKER Produktfamilie
Atomlagenabscheidung (ALD)
Mit der fortschrittlichen ALD-Technologie liefern diese Produkte dielektrische Filme mit hervorragender Kontrolle für kritische Prozesse in fortschrittlichen Geräten mit Nanomaßstab.