Atomlagenabscheidung (ALD) Archives - Lam Research
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Technology: Atomlagenabscheidung (ALD)

ALTUS Produktfamilie

Atomlagenabscheidung (ALD) Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)

Durch die Kombination von CVD- und ALD-Technologien tragen diese marktführenden Systeme in hohem Grad konforme Metallschichten für moderne Wolfram-Metallbeschichtungsanwendungen auf.

STRIKER Produktfamilie

Atomlagenabscheidung (ALD)

Mit der fortschrittlichen ALD-Technologie liefern diese Produkte dielektrische Filme mit hervorragender Kontrolle für kritische Prozesse in fortschrittlichen Geräten mit Nanomaßstab.

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