Solution: Advanced Substrates

Kallisto 产品系列

电化学沉积(ECD)

先进的立式加工平台,用于对 300×300 毫米 至 5.1 代(1100×1300 毫米)的基板进行湿法化学制备,以满足半工业的需求。

Phoenix 产品系列

光刻胶剥离光刻胶显影湿法清洗/剥离电化学沉积(ECD)

Phoenix 可为 510×515 毫米的基板提供全自动大批量面板加工。