Reliant 设备 - Lam Research

Reliant 设备

推动特色工艺路线图,延长晶圆厂的生产设备利用年限

泛林集团的 Reliant® 产品为许多应用提供刻蚀、沉积和清洗解决方案,例如针对特色工艺市场和 ≥14 纳米节点的传统 CMOS 应用。

针对特色工艺 ,我们正在通过开发新的解决方案包括关键步骤,来助力客户实现他们的路线图。 特色工艺是一个不断增长的市场,涵盖功率、CMOS 图像传感器(CIS)、射频(RF)、光电、模拟和混合信号以及微机电系统(MEMS)等器件。 我们还在必要时利用成熟的 300 毫米技术开发 200 毫米解决方案,从而延长其中一些晶圆厂的生产设备利用年限。

对于节点≥14 纳米的传统 CMOS,需要扩大现有产能或新建晶圆厂。 我们通过提供行之有效的解决方案,实现解决方案的连贯、快速。


Reliant 设备

Reliant 刻蚀产品

Reliant 设备 反应离子刻蚀(RIE) 深反应离子刻蚀(DRIE)

我们的 Reliant 刻蚀产品可实现特色工艺路线图,并延长晶圆厂的生产设备利用年限。

Reliant 沉积产品

Reliant 设备 化学气相沉积(CVD) 等离子体增强化学气相沉积(PECVD) 脉冲激光沉积(PLD) 高密度等离子体化学气相沉积(HDP-CVD)

我们的 Reliant 沉积产品可实现特色工艺路线图,并延长晶圆厂的生产设备利用年限。

Reliant 清洗产品

Reliant 设备 湿法清洗/去胶/刻蚀

我们的 Reliant 清洗产品可实现特色工艺路线图,并延长晶圆厂的生产设备利用年限。

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