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Reliant 清洗产品
湿法清洗/剥离瑞莱恩特系统
在各生产步骤之间需要使用多种晶圆清洗技术,以消除可能导致缺陷的无用材料,并为后续加工准备晶圆表面。 湿法处理还可用于光刻胶去除和硅减薄等应用。
泛林集团的Reliant® 自旋湿法清洗产品提供了一整套经过验证的高生产率解决方案,可解决前端(FEOL)、后端(BEOL)和背面/晶圆边缘的清洗问题。
被统称为“超越摩尔”的多个市场的出现,产生了对更多清洗步骤的需求,以管理晶圆表面,实现持续加工。 这些细分市场包括微机电系统(MEMS)和传感器、物联网(IoT)产品以及功率器件,它们需要高效的清洗步骤来去除各种材料。 对于尖端芯片而言,清洗过程既要彻底,又要温和,以尽量减少对脆弱结构的损害。 在这方面,成本效益尤为重要。 此外,还需要能提高产量、设备可靠性和可用性的生产力解决方案。