Reliant Clean Products

Reliant 清洗产品

行业挑战

被统称为“超越摩尔”的多个市场的出现,产生了对更多清洗步骤的需求,以管理晶圆表面,实现持续加工。 这些细分市场包括微机电系统(MEMS)和传感器、物联网(IoT)产品以及功率器件,它们需要高效的清洗步骤来去除各种材料。 对于尖端芯片而言,清洗过程既要彻底,又要温和,以尽量减少对脆弱结构的损害。 在这方面,成本效益尤为重要。 此外,还需要能提高产量、设备可靠性和可用性的生产力解决方案。

主要客户利益

  • 工艺的灵活性,以适用于多种材料
  • 处理 150 毫米至 300 毫米晶圆的超薄基板
  • 整个晶圆、晶圆与晶圆之间以及批次与批次之间的工艺一致性极佳
  • 提高 CMOS 图像传感器和功率器件硅刻蚀的生产率

产品

  • Da Vinci® 系列
  • SP 系列家族

主要应用

  • 湿法清洗
  • 湿法刻蚀
  • 湿法光刻胶去除
  • 硅晶圆减薄