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Solution: Fortschrittliche Substrate
Kallisto-Produktfamilie
Elektrochemische Abscheidung (ECD)
Eine fortschrittliche vertikale Prozessplattform für die nasschemische Behandlung von Substraten von 300 x 300 mm bis hin zu Gen 5.1 (1100 x 1300 mm), die auf die Bedürfnisse der Halbleiterindustrie zugeschnitten ist.
Automobilindustrie,
Diskrete Bauelemente und Leistungshalbleiter,
Fortschrittliche Gehäusetechnologien,
Fortschrittliche Speicher,
Fortschrittliche Substrate,
Mini/Micro-LED,
Optoelektronik und Photonik,
Panel-Level FanOut
Phoenix-Produktfamilie
Elektrochemische Abscheidung (ECD) | Fotolack-entfernung | Fotolack-entwicklung | Nassreinigung/Resistentfernung
Phoenix bietet eine vollautomatische, hochvolumige Plattenverarbeitung für 510×515 mm große Substrate an.
Analog und MixedSignalTechnologien,
Automobilindustrie,
Diskrete Bauelemente und Leistungshalbleiter,
Fortschrittliche Gehäusetechnologien,
Fortschrittliche Speicher,
Fortschrittliche Substrate,
Mini/Micro-LED,
Optoelektronik und Photonik,
Panel-Level FanOut