Analog & Mixed Signal Lösungen


Unsere Lösungen

ANALOG & MIXED SIGNAL

DSiE PRODUKTFAMILIE

Tiefes reaktives Ionenätzen (DRIE)

Diese Produkte bieten eine hervorragende Prozesskontrolle bei hoher Produktivität für verschiedene kritische und nicht kritische Anwendungen des tiefen Ätzens von Silizium.

DV-PRIME UND DA VINCI Produktfamilie

Nassreinigung

Diese Produkte bieten die Prozessflexibilität, die bei hoher Produktivität erforderlich ist, um mehrere Waferreinigungsschritte in der gesamten Fertigung abzudecken.

FLEX PRODUKTFAMILIE

AtomlagenätzenKryogenes ÄtzenReaktives Ionenätzen (RIE)

Die dielektrischen Ätzsysteme von Lam bieten anwendungsorientierte Funktionen zum Erstellen einer Vielzahl anspruchsvoller Strukturen in modernen Geräten.

Kallisto-Produktfamilie

Elektrochemische Abscheidung (ECD)

Eine fortschrittliche vertikale Prozessplattform für die nasschemische Behandlung von Substraten von 300 x 300 mm bis hin zu Gen 5.1 (1100 x 1300 mm), die auf die Bedürfnisse der Halbleiterindustrie zugeschnitten ist.

Kiyo PRODUKTFAMILIE

Reaktives Ionenätzen (RIE)

Diese marktführenden Leiterätzungsprodukte bieten höchste Präzision und Kontrolle bei hoher Produktivität, die für kritische Gerätefunktionen erforderlich sind.

METRYX PRODUKTFAMILIE

Massenmetrologie

Unsere Massemesssysteme bieten Messmöglichkeiten im Milligrammbereich für erweiterte Prozessüberwachung und Steuerung dreidimensionaler Gerätestrukturen.

OverViz

Plasmamodellierung

OverViz™ ist eine industrielle Simulationssoftwareplattform für die realitätsgetreue Modellierung von Plasmaentladungen.

Phoenix-Produktfamilie

Elektrochemische Abscheidung (ECD)Fotolack-entfernungFotolack-entwicklungNassreinigung/Resistentfernung

Phoenix bietet eine vollautomatische, hochvolumige Plattenverarbeitung für 510×515 mm große Substrate an.

Reliant-Reinigungsprodukte

Nassreinigung/ResistentfernungReliant Systems

Unsere Reliant-Reinigungsprodukte unterstützen Roadmaps für Spezialtechnologien und verlängern die produktive Lebensdauer von Fabs.

Reliant-Abscheidungsprodukte

Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)Gepulste Laserabscheidung (PLD)Hochdichte-Plasma-Chemische Gasphasenabscheidung (HDP-CVD)MEM/SIoT DesignautomatisierungPlasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD)Reliant Systems

Unsere Reliant-Abscheidungsprodukte unterstützen Roadmaps für Spezialtechnologien und verlängern die produktive Lebensdauer von Fabs.

Reliant-Ätzprodukte

Reaktives Ionenätzen (RIE)Reliant SystemsTiefes reaktives Ionenätzen (DRIE)

Unsere Reliant-Ätzprodukte unterstützen Roadmaps für Spezialtechnologien und verlängern die produktive Lebensdauer von Fabs.

SP-SERIE Produktfamilie

Nassreinigung

Diese bewährte Produktfamilie bietet zuverlässige, kostengünstige Nassreinigungs- / Nassätzlösungen, mit denen unerwünschte Materialien vorsichtig vom Wafer entfernt werden.

Triton-Produktfamilie

Elektrochemische Abscheidung (ECD)Nassreinigung/Resistentfernung

Die Triton-Plattform ist eine vielseitige und modulare Lösung für die Beschichtung einzelner Wafer sowie die Nassbearbeitung.

Vector Produktfamilie

Plasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD)

Unsere PECVD-Produktfamilie ermöglicht eine präzise dielektrische Filmabscheidung bei hoher Produktivität für eine Vielzahl von Anwendungen.

VERSYS METAL PRODUKTFAMILIE

Reaktives Ionenätzen (RIE)

Diese Metallätzprodukte bieten eine hervorragende Prozesskontrolle bei hoher Produktivität für elektrische Verbindungen und Metallhartmaskenanwendungen.