Reliant Deposition Products - Lam Research

Reliant-Abscheidungsprodukte

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Reliant-Abscheidungsprodukte

Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)Gepulste Laserabscheidung (PLD)Hochdichte-Plasma-Chemische Gasphasenabscheidung (HDP-CVD)MEM/SIoT DesignautomatisierungPlasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD)Reliant Systems

Herausforderungen für die Industrie

In den letzten Jahren hat sich die Halbleiterindustrie auf neue Segmente wie Leistungschips, CMOS-Bildsensoren (CIS), Hochfrequenzfilter (HF) und mikroelektromechanische Systeme (MEMS) ausgedehnt, die eine größere Konnektivität, eine leistungsfähigere Bildgebung und eine Vielzahl anderer marktbestimmter Funktionen ermöglichen. Aufgrund der vielfältigen Anforderungen bei ihrer Herstellung müssen die Beschichtungstechnologien in der Lage sein, zahlreiche Material- und Leistungsanforderungen zu erfüllen.

 

Wichtige Kundenvorteile

  • Flexibilität für ein breites Spektrum von Prozessanforderungen durch Multi-Station Sequential Deposition (MSSD)
  • Verbesserte Gleichmäßigkeit der Schicht auf der Waferoberfläche
  • Reproduzierbare Schichteigenschaften mit ausgezeichneter Spannungsstabilität
  • Hohe Produktivität durch hohen Durchsatz und effizientes Wafer-Handling-Design
  • Produktionserprobte Lösungen mit niedrigem CoO-Wert von 150 mm bis 300 mm

Produktangebot

  • Concept Two® ALTUS® (200 mm)
  • Concept Two® SEQUEL® (200 mm, 150 mm)
  • Concept Two® SPEED® (200 mm)
  • Pulsus™
  • SPEED® Max (300 mm)
  • VECTOR® (300 mm, 200 mm)

Hauptanwendungsbereiche

  • Wolfram durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
  • Gap-Fill-Oxid durch hochdichte Plasma(HDP)-CVD
  • Silanoxid, -nitrid und -oxynitrid durch plasmaunterstützte CVD (PECVD)
  • PECVD TEOS-Oxid
  • Gepulste Laserabscheidung (PLD)
  • Dotierte Oxide (Bor-Phosphor)