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Prestis™
脈衝雷射沉積(PLD)
脈衝雷射沉積(PLD)是一種用途非常廣泛的薄膜沉積技術,能夠沉積各種先進薄膜材料。 隨著當今市場對增強型新材料系統的需求,PLD 能夠實現 PVD 反應濺射等傳統技術實際上無法沉積的層。
這種沉積解決方案有助於實現更先進的元件設計,並推動用於 5G、WiFi6 和 6E 的下一代射頻濾波器、高階 MEMS 麥克風和其他 MEMS 應用的發展。 PLD 技術正在不斷發展,以滿足市場對新材料系統、AR/VR 和量子運算等應用的需求。 作為半導體產業的領導者,我們透過卓越的工程技術加快創新步伐,幫助晶片製造商創造出塑造當今世界所需的特殊製程技術。
特殊製程領域的各種應用需要對新興材料進行加工。 其中一種材料是鈧含量高的氮化鋁鈧(AlScN)。 隨著 5G 市場的成長,對更高頻頻帶濾波器的需求,已為現有的大量生產技術帶來挑戰。 為了滿足這些具有挑戰性的要求,需要一種應用廣泛的薄膜沉積技術來實現更先進的元件設計。 科林研發的 Prestis™ 產品可實現 ≥ 40% AlScN 薄膜的大量生產。