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Prestis™
脉冲激光沉积(PLD)
脉冲激光沉积(PLD)是一种用途非常广泛的薄膜沉积技术,能够沉积各种先进薄膜材料。 随着当今市场对增强型新材料系统的需求,PLD 能够实现 PVD 反应溅射等传统技术无法沉积的材料薄膜。
这种沉积解决方案有助于实现更先进的器件设计,并推动用于 5G、WiFi 6 和 6E 的下一代射频滤波器、高端 MEMS 麦克风和其他 MEMS 应用的发展。 PLD 技术正在不断发展,以满足市场对新材料系统、AR/VR 和量子计算等应用的需求。 作为半导体行业的领导者,我们通过卓越的工程技术加快创新步伐,帮助芯片制造商创造出塑造当今世界的特色工艺。
特色工艺领域的各种应用需要对新兴材料进行加工。 其中一种材料是钪含量高的氮化铝钪(AlScN)。 随着 5G 市场的增长,对更高频频带滤波器的需求给现有的大批量生产技术带来了挑战。 为了满足这些颇为挑战的要求,需要一种用途广泛的薄膜沉积技术来实现更先进的器件设计。 泛林集团的 Prestis™ 产品可实现 ≥ 40% AlScN 薄膜的量产。