Solution: NAND
Akara®
Conductor Etch
Akara® wurde für die Massenproduktion mit maximaler Prozessausbeute entwickelt. Das Produkt erhöht den Waferausstoß und eliminiert Zeitverluste, da es innerhalb von Millisekunden auf jede Änderung reagiert. Die branchenweit fortschrittlichste Steuerung der Ätzgleichmäßigkeit sorgt für Gleichmäßigkeit bei kritischen Abmessungen im Angstrombereich sowie Wafer-to-Wafer-Wiederholbarkeit.
ALTUS Produktfamilie
Atomlagenabscheidung (ALD) Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
Durch die Kombination von CVD- und ALD-Technologien tragen diese marktführenden Systeme in hohem Grad konforme Metallschichten für moderne Wolfram-Metallbeschichtungsanwendungen auf.
SEMulator3D
Modellierung von Halbleiterprozessen
SEMulator3D® ist eine Plattform zur Modellierung von Halbleiterprozessen, die weitreichende Möglichkeiten zur Technologieentwicklung bietet.