NAND Archives - Lam Research
MyLam

[Solution:] NAND

Akara®

Conductor Etch

Akara®는 밀리초 단위로 단축한 공정 반응 시간을 통해 웨이퍼 출력을 증가시키고, 낭비되는 시간을 줄여 최대의 공정 수율을 제공합니다. 업계에서 가장 앞선 식각 균일성 제어 기술로 옹스트롬 수준의 높은 균일성과 웨이퍼 간 반복성을 제공합니다.

ALTUS 제품군

Chemical Vapor Deposition (CVD) 원자층 증착(ALD)

CVD 및 ALD 기술을 결합하여 시장을 선도하는 이 시스템은 고급 텅스텐 금속화 응용 분야를 위한 고도의 등각 금속 박막을 증착합니다.

SEMulator3D

반도체 프로세스 모델링

SEMulator3D®는 광범위한 기술 개발 역량을 갖춘 반도체 공정 모델링 플랫폼입니다.

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