Conductor Etch
Akara® 專為大量生產所設計，實現最大製程良率，增加晶圓產量，並消除時間浪費，對任何變化的反應時間僅為毫秒。 業界最先進的蝕刻均勻度控制能力，可提供埃米級關鍵尺寸均勻性和晶圓到晶圓的可重複性。
化學氣相沉積（CVD） 原子層沉積（ALD）
結合化學氣相沉積（CVD）和原子層沉積（ALD）技術，這些領先市場的系統可為先進的鎢金屬化應用沉積出所需之高度均勻一致的（conformal）薄膜。
半導體製程建模
SEMulator3D® 是一個半導體製程建模平台，具有廣泛的技術開發能力。
