Conductor Etch
Akara® 旨在实现具有最大工艺良率的大批量生产，可提高晶圆产量并消除时间浪费，其对任何变化的响应时间均为毫秒级。 行业最先进的刻蚀均匀性控制可提供埃米级关键尺寸下的均匀性和晶圆间可重复性。
化学气相沉积（CVD） 原子层沉积(ALD)
结合化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)技术，这些领先市场的设备可为先进的钨金属化应用沉积出所需之高度均匀一致的(conformal)薄膜。
半导体工艺建模
SEMulator3D® is a semiconductor process modeling platform that offers wide ranging technology development capabilities.
