電化學沉積 (ECD)
先進的立式製程平台,用於對 300×300 公釐 至 5.1 代(1100×1300 公釐)的基板進行濕式化學處理,以滿足半導體產業的需求。
光阻移除 光阻顯影 濕式清洗/光阻去除/蝕刻 電化學沉積 (ECD)
Phoenix 可為 510×515 公釐基板提供全自動大量面板製程。
濕式清洗/光阻去除/蝕刻 電化學沉積 (ECD)
Triton 平台是用於單晶圓電鍍和濕式製程的多功能模組化解決方案。