- 대량 생산을 위한 완전 자동화 시스템
- 510x510mm 패널 처리
- Thin glass 처리 능력
- 패널 동시 양면 처리
- 진공 척 기술로 전면 노출 패널 표면 처리
- 도금 및 식각 균일성 성능
- 온라인 주입 및 화학 물질 모니터링 시스템 준비(내부/외부)
- 팹 환경에 맞춘 유연한 장비 레이아웃 - 낮은 소유 비용에 최적화
- Phoenix VRT(수직 레지스트 처리)
- Phoenix ECD(전기화학적 증착)
- Phoenix VCA(수직 세정 애플리케이션)
- 범프, 필러, 패드, RDL, TSV, FLI에 Cu, Ni, SnAg, Au 등 전기화학적 증착
- 금속 식각, UBM 식각, 산화물 식각
- PR-스트립, PR-현상
Phoenix 제품군
Products
Electrochemical Deposition (ECD) PR-Development PR-Strip Wet Clean/Strip/Etch
Phoenix는 510x510mm 기판의 완전 자동화된 대량 패널 처리를 제공합니다.
소유 비용의 재정립을 목표로 설계된 Phoenix는 패널 레벨 패키징 산업에서 독보적인 기술을 보유하고 있으며 운영 유틸리티를 적절하게 사용합니다.
웨이퍼 레벨의 성능에서 영감을 받은 Phoenix는 AI, 고성능 컴퓨팅 및 기타 애플리케이션이 주도하는 미래 시장의 요구 사항을 해결하기 위한 스트립, 현상, 식각 및 도금 솔루션을 제공합니다.
Industry Challenges
첨단 패키징은 실리콘의 지속적인 스케일링에 있어 점점 더 중요해지고 있습니다. 여러 소자 제조업체와 팹리스 기업들은 성능 및 비용 요구사항을 충족하기 위해 새로운 칩렛 솔루션을 채택하고 있습니다. 이렇게 가속화하는 칩렛 전환에는 기판 시장 부문에서 새로운 패키징 솔루션과 혁신을 필요로 합니다. 기존 실리콘 스케일링이 비용 및 기술의 한계에 근접함에 따라 기업들은 새로운 칩렛 및 이종 집적화 솔루션을 도입하고 있습니다. 지속적인 스케일링을 보장하기 위해 기판 솔루션은 공정 장비 솔루션에서의 몇 가지 혁신을 필요로 합니다. 기술 로드맵 요구 사항을 충족하는 것 외에도 기판 레벨 장비는 다양한 재료와 크기의 패널을 처리하기 위해 유연성을 향상시켜야 합니다. 또한 대량 제조 환경에서는 높은 생산성과 낮은 소유 비용이 요구됩니다.