Analog & Mixed Signal Archives - Lam Research
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[Solution:] Analog & Mixed Signal

DSIE 제품군

Deep Reactive Ion Etch (DRIE)

여러 딥 실리콘 식각 주요 및 비주요 공정에서 높은 생산성으로 공정을 완벽하게 제어합니다.

DV-Prime & Da Vinci 제품군

Wet Clean

제조 전반에 걸쳐 웨이퍼 세정의 여러 단계를 높은 생산성으로 처리하는 데 필요한 공정 유연성을 갖추고 있습니다.

FLEX 제품군

Atomic Layer Etch (ALE) Reactive Ion Etch (RIE)

램리서치의 유전체 식각 시스템은 용도에 맞춘 기능 덕분에 고급 소자의 까다로운 구조를 다양하게 만들 수 있습니다.

Kallisto 제품군

Electrochemical Deposition (ECD)

300x300mm에서 1100x1100mm(5.1세대)까지 기판의 습식 화학 처리를 위한 첨단 수직 공정 플랫폼으로 반도체 업계의 요구 사항에 맞게 제작되었습니다.

KIYO 제품군

Reactive Ion Etch (RIE)

시장을 선도하는 램리서치의 전도체 식각 제품은 주요 소자 피처(feature)에 요구되는 고성능 정밀도와 제어력이 특징입니다.

METRYX 제품군

Mass Metrology

램리서치의 질량 계측 시스템에는 3차원 소자 구조의 첨단 공정 모니터링과 제어에 필요한 밀리그램 미만 단위의 측정 기능이 있습니다.

OverViz

플라스마 모델링

OverViz™는 플라즈마 방전의 높은 정확도(high-fidelity) 모델링을 위한 산업용 시뮬레이션 소프트웨어 플랫폼입니다.

Phoenix 제품군

Electrochemical Deposition (ECD) PR-Development PR-Strip Wet Clean/Strip/Etch

Phoenix는 510x510mm 기판의 완전 자동화된 대량 패널 처리를 제공합니다.

Reliant Clean 제품

Reliant Systems Wet Clean/Strip/Etch

램리서치의 Reliant 세정 제품군은 특수 기술의 로드맵을 지원하고 제조 시설의 생산 수명을 연장하는 솔루션을 제공합니다.

Reliant Deposition 제품

Chemical Vapor Deposition (CVD) High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition (HDP-CVD) Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reliant Systems 펄스 레이저 증착(PLD)

램리서치의 Reliant 증착 제품군은 특수 기술의 로드맵을 지원하고 제조 시설의 생산 수명을 연장하는 솔루션을 제공합니다.

Reliant Etch 제품

Deep Reactive Ion Etch (DRIE) Reactive Ion Etch (RIE) Reliant Systems

램리서치의 Reliant 식각 제품군은 특수 기술의 로드맵을 지원하고 제조 시설의 생산 수명을 연장하는 솔루션을 제공합니다.

SP 시리즈 제품군

Wet Clean

성능이 검증된 이 제품군은 뛰어난 신뢰성과 비용 효과로 웨이퍼에서 불필요한 물질을 부드럽게 제거하는 습식 세정/습식 식각 솔루션입니다.

Triton 제품군

Electrochemical Deposition (ECD) Wet Clean/Strip/Etch

Triton 플랫폼은 단일 웨이퍼 도금과 습식 처리를 위한 다목적 모듈 솔루션입니다.

VECTOR 제품군

Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)

램리서치의 PECVD 제품군은 광범위한 소자 분야에서 높은 생산성으로 고정밀 유전막 증착을 실현합니다.

VERSYS METAL 제품군

Reactive Ion Etch (RIE)

이 금속 식각 제품은 전기 연결 및 금속 하드마스크 분야에서 높은 생산성으로 공정을 완벽하게 제어합니다.

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