Triton 产品系列

湿法清洗/去胶/刻蚀电化学沉积 (ECD)

Triton 平台是用于单晶圆电镀和湿法工艺的多功能模块化解决方案。其设计使该设备成为研发的首选，并可扩展以支持大批量生产。

该平台可在一台设备中制备酸和溶剂。这使 Triton 成为在狭小空间内解决各种工艺步骤的理想解决方案。

采用专利电镀技术的电化学沉积可实现卓越的均匀性和良率表现，满足日益增长的细线电镀市场需求。

未来先进的芯片布局需要支持不断缩小特征设计的技术。在生成互连层的同时，先进的电镀解决方案可确保无缺陷的金属化。

随着线宽的收缩，阻挡层/种子层不断变薄，这就要求对工艺进行越来越严格的控制，以实现足够的自下而上的填充率，同时保护种子层。单个逻辑层中的特征几何形状范围很广，这就需要一个更大的工艺窗口，以确保在深宽比、种子覆盖率和密度变化较大的情况下对结构进行适当填充。