Pulsus 產品系列
Products
脈衝雷射沉積（PLD）是一種用途非常廣泛的薄膜沉積技術，能夠沉積各種先進薄膜材料。 隨著當今市場對增強型新材料系統的需求，PLD 能夠實現 PVD 反應濺射等傳統技術實際上無法沉積的層。
這種沉積解決方案有助於實現更先進的元件設計，並推動用於 5G、WiFi6 和 6E 的下一代射頻濾波器、高階 MEMS 麥克風和其他 MEMS 應用的發展。 PLD 技術正在不斷發展，以滿足市場對新材料系統、AR/VR 和量子運算等應用的需求。 作為半導體產業的領導者，我們透過卓越的工程技術加快創新步伐，幫助晶片製造商創造出塑造當今世界所需的特殊製程技術。
Industry Challenges
特殊製程領域的各種應用需要對新興材料進行加工。 其中一種材料是鈧含量高的氮化鋁鈧（AlScN）。 隨著 5G 市場的成長，對更高頻頻帶濾波器的需求，已為現有的大量生產技術帶來挑戰。 為了滿足這些具有挑戰性的要求，需要一種應用廣泛的薄膜沉積技術來實現更先進的元件設計。 科林研發的 Pulsus™ PLD 產品可實現 ≥ 40% AlScN 薄膜的大量生產。
- 透過增加網路可處理的使用者數量，並提高每個使用者的速度，RF 濾波器對於 5G 和 WiFi 6 的效能提升扮演了重要角色。 薄膜的高鈧含量可透過增強機械耦合係數來改善射頻濾波器的效能。
- MEMS 麥克風因其高訊噪比而受到重視，即使是低沉的聲音也能準確捕捉，這對於 5G 裝置中的語音控制功能和雜訊消除至關重要。 薄膜的高鈧含量可透過結合提高壓電效能（e31,f）和介電損耗（tan d）來改善訊噪比。
Key Customer Benefits
- 在廣泛應用中沉積複雜材料（尤其是 AlScN 等陶瓷）
- 卓越的薄膜品質，包括高壓電效能和低介電損耗
- 先進的薄膜控制，如 WiW 薄膜厚度和應力的均勻度調整
- 利用 2300® 傳輸模組的現有安裝基礎，與蝕刻等其他科林研發產品產生綜效
Product Offerings
- Pulsus™
Key Applications
- 用於射頻 MEMS、MEMS 麥克風、壓電微機械超音波傳感器（PMUT）和微型揚聲器的 AlScN 層