Pulsus 產品系列 - Lam Research

Pulsus 產品系列

Pulsus 產品系列

Products

脈衝雷射沉積(PLD)

射頻 MEMS, 感測器和傳感器

脈衝雷射沉積(PLD)是一種用途非常廣泛的薄膜沉積技術,能夠沉積各種複雜的多化合物材料。  隨著當今市場對增強型新材料系統的需求,PLD 可沉積反應濺射或 ALD 等傳統技術無法沉積的層。

科林研發 Pulsus PLD 系列實現了用於特殊製程應用的超過 30% 的 ScAlN 薄膜的量產。  這種沉積解決方案有助於實現更先進的元件設計,並推動用於 5G 和 WiFi6 的下一代射頻濾波器、高階 MEMS 麥克風和其他 MEMS 應用的發展。  以氧化物和氮化物薄膜為基礎的新技術正在不斷開發中,以滿足市場需求。


Industry Challenges

特殊製程領域的各種應用需要對新型材料進行加工。 其中一種材料是摻鈧氮化鋁(ScAlN),這種材料具有極高的機電耦合性,因此在高頻微機電系統應用領域備受關注。 隨著 5G 市場的增長,對更高頻帶濾波器的需求給現有的大量生產技術帶來了挑戰。 微機電系統和 5G 產業有高壓電效能(e31,f)和低內部損耗(tan δ)的要求。 為了滿足這些具有挑戰性的要求,需要一種應用廣泛的薄膜沉積技術來實現更先進的元件設計。

Key Customer Benefits

  • 在廣泛應用中沉積複雜材料(尤其是 AlScN 等陶瓷)
  • 卓越的薄膜品質,包括高壓電效能和低介電損耗
  • 先進的薄膜控制,如 WiW 薄膜厚度和應力的均勻度調整
  • 在平台設計和獨特的 PLD 目標技術的支援下,生產量高,擁有成本低

Product Offerings

  • Pulsus

Key Applications

  • 用於射頻 MEMS、MEMS 麥克風、壓電式微機械超音波傳感器(PMUT)和微型揚聲器的 ScAlN 層
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