Pulsus 产品系列
Products
脉冲激光沉积（PLD）是一种用途非常广泛的薄膜沉积技术，能够沉积各种复杂的多化合物材料。 随着当今市场对增强型新材料系统的需求，PLD 可沉积传统技术（如反应溅射或原子层沉积）无法沉积的层。
泛林集团 Pulsus™ PLD 系列实现了用于特色工艺应用的超过 30% 的 ScAlN 薄膜的量产。 这种沉积解决方案有助于实现更先进的器件设计，并推动用于 5G 和 WiFi6 的下一代射频滤波器、高端 MEMS 麦克风和其他 MEMS 应用的发展。 以氧化物和氮化物薄膜为基础的新技术正在不断开发中，以满足市场需求。
Industry Challenges
特色工艺领域的各种应用需要对新型材料进行加工。 其中一种材料是掺钪氮化铝（ScAlN），这种材料具有极高的机电耦合性，因此在高频微机电系统应用领域备受关注。 随着 5G 市场的增长，对更高频频带滤波器的需求给现有的大批量生产技术带来了挑战。 微机电系统和 5G 产业有高压电性能（e31,f）和低内部损耗（tan δ）的要求。 为了满足这些颇为挑战的要求，需要一种用途广泛的薄膜沉积技术来实现更先进的器件设计。
Key Customer Benefits
- 用途广泛，可沉积复杂材料（尤其是 AlScN 等陶瓷）
- 出色的薄膜质量，包括高压电性能和低介电损耗
- 先进的薄膜控制，如 WiW 对薄膜厚度和应力的均匀性调整
- 在平台设计和独特的 PLD 目标技术的支持下，产量高，拥有成本低
Product Offerings
- Pulsus™
Key Applications
- 用于射频 MEMS、MEMS 麦克风、压电微机械超声波换能器（PMUT）和微型扬声器的 ScAlN 层