SEMulator3D® 是一個半導體製程建模平台，具有廣泛的技術開發能力。 SEMulator3D 是以高效率的物理驅動立體像素(voxel)建模技術為基礎，具有為完整製程流程建模的獨特能力。 從輸入的設計數據開始，SEMulator3D 可依照整合的製程流程描述，建構實際在晶圓廠中打造的複雜三維結構的虛擬等效物。
SEMulator3D 製程建模和分析可用來快速、準確地「虛擬製造」先進的奈米製程，使工程師能夠在開發過程的早期瞭解製造成效，並減少耗時和昂貴的矽晶學習週期。
產業挑戰
半導體技術在三維製程方面的不斷進步，包括環繞式閘極場效應電晶體、三維記憶體、BEOL 和背晶圖案化，大幅提升了製程開發的複雜性。 因此，傳統的建構和測試技術開發方法變得過於昂貴和耗時。
由於最先進的晶圓廠需要數十億美元的投資，而且技術日益複雜，矽晶工程試錯的時間和成本已變得不可接受。 錯過上市時機的代價極大。 使用 Coventor 半導體製程建模軟體進行預測性三維製程建模是一種替代方法，可顯著縮短矽晶學習週期，降低開發成本，並減少錯過產品上市時程的風險。 與實際晶圓執行需要數週至數月的時間不同，虛擬製造只需幾分鐘至幾小時即可產生結果。
採用 Coventor 的 SEMulator3D 虛擬製造平台進行預測性三維製程建模，可縮短開發週期，並降低以傳統矽晶工程方式學習的相關成本。 透過虛擬製造的晶圓進行開發，SEMulator3D可協助企業更快地將新技術投入量產。
客戶的重要效益
- 時間－透過模擬，幾小時或幾天就能解決問題，而使用真實矽晶材料則需要幾週或幾個月的時間
- 成本－減少對資本設備、工程和工廠人員、晶圓、光罩、化學品、消耗品和設施的需求
主要應用
前瞻研發
- 製程整合驗證
- 大分支決策
- 製程假設
缺陷分析
- 3D 故障檢查
- 缺陷消除率
- R/C、漏電流、元件、IV、CV 等
良率：試產和 HVM
- 設計流程最佳化
- 製程容許範圍最佳化
- 跨晶圓均勻度