STRIP & CLEAN PRODUKTE

DAS RESULTAT SIND MAKELLOSE OBERFLÄCHEN

Stripping und Reinigungstechnologien werden zwischen einzelnen Herstellungsschritten eingesetzt, um unerwünschte Materialen zu entfernen, die in weiterer Folge Defekte verursachen könnten, und um die Waferoberfläche für Folgeprozesse vorzubereiten. Im Rahmen des Photoresist Strips werden Fotolacke und Rückstände aus Ionenimplantations- oder Ätzschritten entfernt. Wafer-Reinigungsschritte werden während des gesamten Fertigungsprozesses immer wieder eingesetzt, um Partikel, Kontaminationen, Rückstände und andere unerwünschte Materialien zu entfernen. Nassprozesstechnologien werden dabei für die Waferreinigung und auch für Strip- und Ätzanwendungen verwendet. Plasmaschritte zur Reinigung der Scheibenränder wiederum werden eingesetzt, um die Chipausbeute durch die Entfernung unerwünschter Materialien von den Scheibenrändern zu erhöhen, da diese sich negativ auf die Bauelemente auswirken können.

Lams Stripping -Technologie ermöglicht die selektive Entfernung von Fotolackrückständen und bietet hohe Prozessflexibilität für vielfältige Anwendungen. Die hochproduktiven Reinigungssysteme wiederum bieten makellose Oberflächenuniformitäten selbst bei den herausforderndsten Reinigungsschritten.



STRIPPING & REINIGEN (STRIP & CLEAN)

UNSERE PRODUKTE

CORONUS PRODUKTFAMILIE

Plasma Bevel Clean

Diese sauberen Abschrägungssysteme entfernen unerwünschte Materialien von der Waferkante und schützen gleichzeitig den aktiven Die-Bereich, um die Ausbeute zu erhöhen.

DV-PRIME UND DA VINCI
Produktfamilie

Wet Clean/Strip/Etch

Diese Produkte bieten die Prozessflexibilität, die bei hoher Produktivität erforderlich ist, um mehrere Waferreinigungsschritte in der gesamten Fertigung abzudecken.

EOS PRODUKTFAMILIE

Spin Wet Clean Wet Clean/Strip/Etch

Die modernen Wet Clean-Produkte von Lam bieten außergewöhnlich geringe Defekte auf dem Wafer bei hohem Durchsatz für zunehmend anspruchsvolle Anwendungen.

GAMMA PRODUKTFAMILIE

Dry Strip

Diese Produkte bieten die Prozessflexibilität, die erforderlich ist, um ein breites Spektrum kritischer Photoresiststreifenanwendungen abzudecken.

RELIANT CLEAN PRODUKtE

Reliant Systems Spin Wet Clean Wet Clean/Strip/Etch

Lams generalüberholte und neu gebaute Reliant-Produkte bieten zuverlässige, in der Produktion bewährte Lösungen zu niedrigen Betriebskosten für eine Reihe von Reinigungen an der Vorder- und Rückseite / Abschrägung.

SP-SERIE PRODUKTFAMILIE

Wet Clean/Strip/Etch

Diese bewährte Produktfamilie bietet zuverlässige, kostengünstige Nassreinigungs- / Nassätzlösungen, mit denen unerwünschte Materialien vorsichtig vom Wafer entfernt werden.

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