Technology: 濕式清洗／光阻去除／蝕刻

Phoenix 產品系列

光阻移除光阻顯影濕式清洗／光阻去除／蝕刻電化學沉積 (ECD)

Phoenix 可為 510×515 公釐基板提供全自動大量面板製程。

Mini／Micro LED, 先進封裝, 先進的基板材料, 先進記憶體, 光電與光子, 分立與功率元件, 汽車, 面板級扇出, 類比與混合訊號

Reliant 清洗產品

Reliant 系統濕式清洗／光阻去除／蝕刻

我們的 Reliant 清洗產品可實現特殊製程藍圖，並延長晶圓廠的生產壽命。

先進封裝, 互連, 光電與光子, 分立與功率元件, 圖案化, 感測器和傳感器, 電晶體, 類比與混合訊號

Triton 產品系列

濕式清洗／光阻去除／蝕刻電化學沉積 (ECD)

Triton 平台是用於單晶圓電鍍和濕式製程的多功能模組化解決方案。

Mini／Micro LED, 先進封裝, 先進記憶體, 光電與光子, 分立與功率元件, 汽車, 類比與混合訊號