光刻胶去除 光刻胶显影 湿法清洗/去胶/刻蚀 电化学沉积 (ECD)
Phoenix 可为 510×515 毫米的基板提供全自动大批量面板加工。
Reliant 设备 湿法清洗/去胶/刻蚀
我们的 Reliant 清洗产品可实现特色工艺路线图,并延长晶圆厂的生产设备利用年限。
湿法清洗/去胶/刻蚀 电化学沉积 (ECD)
Triton 平台是用于单晶圆电镀和湿法工艺的多功能模块化解决方案。