Process: Strip & Clean
CORONUS Produktfamilie
Plasma Bevel Clean
Diese sauberen Abschrägungssysteme entfernen unerwünschte Materialien von der Waferkante und schützen gleichzeitig den aktiven Die-Bereich, um die Ausbeute zu erhöhen.
DV-PRIME UND DA VINCI
Produktfamilie
Spin Wet Clean Wet Clean/Strip/Etch
Diese Produkte bieten die Prozessflexibilität, die bei hoher Produktivität erforderlich ist, um mehrere Waferreinigungsschritte in der gesamten Fertigung abzudecken.
EOS Produktfamilie
Wet Clean/Strip/Etch
Unsere modernen Wet Clean-Produkte bieten außergewöhnlich geringe Defekte auf dem Wafer bei hohem Durchsatz für zunehmend anspruchsvolle Anwendungen.
GAMMA Produktfamilie
Dry Strip
Diese Produkte bieten die Prozessflexibilität, die erforderlich ist, um ein breites Spektrum kritischer Photoresiststreifenanwendungen abzudecken.
Reliant Clean Produkte
Reliant Systems Spin Wet Clean Wet Clean/Strip/Etch
Die generalüberholten und neu gebauten Reliant-Produkte bieten zuverlässige, in der Produktion bewährte Lösungen zu niedrigen Betriebskosten für eine Reihe von Reinigungen an der Vorder- und Rückseite / Abschrägung.
SP-SERIE Produktfamilie
Wet Clean/Strip/Etch
Diese bewährte Produktfamilie bietet zuverlässige, kostengünstige Nassreinigungs- / Nassätzlösungen, mit denen unerwünschte Materialien vorsichtig vom Wafer entfernt werden.