Process: Strip & Clean
CORONUS系列產品
Plasma Bevel Clean
這些晶邊清洗系列產品可去除晶圓邊緣上的不必要材料，保護有效晶粒區域以提升晶粒良率。
DV-PRIME和DA VINCI 產品
Spin Wet Clean
這些產品提供了高生產力所需的製程靈活性，可在整個製造流程中實現各種晶圓清洗步驟。
EOS系列產品
Lam Research的先進濕式晶圓清洗產品可提供極低的晶圓缺陷率以及優異的生產量，以解決日益嚴苛的晶圓清洗應用需求。
GAMMA系列產品
Dry Strip
這些產品可為各種關鍵的光阻去除應用提供所需的製程靈活性。
RELIANT清洗產品
Reliant Systems Spin Wet Clean
Lam Research的整修與新建 Reliant產品可為各種晶面和晶背/晶邊清洗應用提供可靠、通過生產驗證的低成本解決方案。
SP系列產品
Spin Wet Clean
這款通過驗證的產品提供可靠、具成本效益的濕式清洗/濕式蝕刻解決方案，可輕柔地去除晶圓上的不必要材料。