Technology： 深反应离子刻蚀（DRIE）

这些产品为若干关键和非关键深硅刻蚀应用提供了高生产率的特殊工艺控制。

我们的 Reliant 刻蚀产品可实现特色工艺路线图，并延长晶圆厂的生产设备利用年限。

对于深刻蚀应用，此产品系列提供了关键高纵横比特征所需的卓越的跨晶片均匀性控制。