집적 광학 회로라고도 하는 광집적 회로(PIC)는 전자 집적 회로와 유사합니다. 그러나 이 광전자 소자는 전자 신호만 사용하여 정보를 전송하지 않고 전기와 광학(빛) 신호를 모두 사용합니다. 빛 신호를 사용하기 때문에 더 큰 대역폭으로 더 빨리 연결할 수 있어 전력비가 절감됩니다. 광학 구성요소는 전기통신 부문에서 가정용 연결에 사용되는 탄탄한 기술입니다. 데이터 센터 부문의 성장에 따라 좀더 효율적인 시스템 아키텍처를 지원하고, 에너지 소비량을 크게 줄이고, 성능을 개선하는 PIC에 대한 수요가 크게 증가했습니다. 따라서 광전자 시스템 사용은 계속 증가할 것으로 예상되므로, 비용 효과와 신뢰성이 좋은 제조 솔루션이 필요합니다.
광전자 및 광자 기술
램리서치 솔루션
DSIE 제품군
DRIE
여러 딥 실리콘 식각 주요 및 비주요 공정에서 높은 생산성으로 공정을 완벽하게 제어합니다.
DV-Prime & Da Vinci 제품군
Spin Wet Clean
제조 전반에 걸쳐 웨이퍼 세정의 여러 단계를 높은 생산성으로 처리하는 데 필요한 공정 유연성을 갖추고 있습니다.
FLEX 제품군
Atomic Layer Etch (ALE) Reactive Ion Etch
램리서치의 유전체 식각 시스템은 용도에 맞춘 기능 덕분에 고급 소자의 까다로운 구조를 다양하게 만들 수 있습니다.
RELIANT CLEAN 제품
Reliant Systems Spin Wet Clean
램리서치의 새로 업그레이드된 Reliant 제품은 생산을 통해 검증된 뛰어난 신뢰성을 바탕으로 전면 및 후면/베벨 세정의 광범위한 분야에 사용할 수 있는 솔루션이며, 관리비도 적게 듭니다.
RELIANT DEPOSITION 제품
Chemical Vapor Deposition (CVD) High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition (HDP-CVD) Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reliant Systems
램리서치의 새로 업그레이드된 Reliant 제품은 생산을 통해 검증된 뛰어난 신뢰성을 바탕으로 유전막 분야에 사용할 수 있는 솔루션이며, 관리비도 적게 듭니다.
RELIANT ETCH 제품
DRIE Reactive Ion Etch Reliant Systems
램리서치의 새로 업그레이드된 Reliant 제품은 생산을 통해 검증된 뛰어난 신뢰성을 바탕으로 전도체, 유전체, 금속 식각 분야에 사용할 수 있는 솔루션이며, 관리비도 적게 듭니다.
SENSE.I 제품군
Atomic Layer Etch (ALE) Deep Reactive Ion Etch (DRIE) DRIE
램리서치의 최신 식각 플랫폼은 컴팩트한 고밀도 구조에 누구도 따라올 수 없는 시스템 지능을 갖추고 있어 공정 성능을 최고의 생산성으로 구현합니다.
SP 시리즈 제품군
Spin Wet Clean
성능이 검증된 이 제품군은 뛰어난 신뢰성과 비용 효과로 웨이퍼에서 불필요한 물질을 부드럽게 제거하는 습식 세정/습식 식각 솔루션입니다.
SPEED 제품군
High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition (HDP-CVD)
이 유전체 증착 제품은 업계 최고의 처리량과 신뢰성으로 고종횡비(high aspect ratio) 공간에 완벽한 갭필(gapfill)을 구현합니다.
VECTOR 제품군
Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)
램리서치의 PECVD 제품군은 광범위한 소자 분야에서 높은 생산성으로 고정밀 유전막 증착을 실현합니다.