Optoelectronics & Photonics | Our Solutions | Lam Research

光電與光子解決方案

光子積體電路(PIC),也稱為整合光學電路,與電子積體電路類似,但是,這些光電元件不僅使用電性訊號來傳輸資訊,而是同時使用電性訊號和光學(光)訊號。使用光學元件可實現更高頻寬和更快速的連接,並降低功耗。光學元件已成熟運用於電信產業,是為家庭提供網路連接的重要技術。資料中心應用的成長大大推升了對PIC的需求,因為它們可以實現更高效的系統架構,顯著降低功耗並提升效能。因此,光電系統的使用可望繼續成長,需要具成本效益、可靠的製造解決方案。


光電與光子

解決方案

Coventor Product Family

Plasma Modeling Semiconductor Process Modeling

Our semiconductor process modeling software (SEMulator3D) and plasma modeling software (OverViz) perform predictive modeling of etch, deposition, plasma & other processes, to identify problems prior to fabrication.

DSIE系列產品

深反應離子蝕刻(DRIE)

這些產品能以卓越的製程控制提高各種深矽晶蝕刻應用的生產力。

DV-PRIME和DA VINCI 產品

濕式清洗/光阻去除/蝕刻

這些產品提供了高生產力所需的製程靈活性,可在整個製造流程中實現各種晶圓清洗步驟。

FLEX系列產品

Atomic Layer Etch (ALE) 反應離子蝕刻(RIE)

Lam Research的介電層蝕刻系統具備應用導向功能,可用來建構先進元件中的各種高難度結構。

Galaxy 產品系列

濕式清洗/光阻去除/蝕刻

Galaxy 平台將多年的批次晶圓製程經驗與通常只能在單晶圓機台上實現的先進程序控制相結合。

Kallisto 產品系列

介電層顯影 光阻移除 光阻顯影 濕式清洗/光阻去除/蝕刻 電化學沉積 (ECD)

先進的立式製程平台,用於對 300×300 公釐 至 5.1 代(1100×1300 公釐)的基板進行濕式化學處理,以滿足半導體產業的需求。

OverViz

Plasma Modeling

OverViz™ is an industrial simulation software platform for high-fidelity modeling of plasma discharges.

Phoenix 產品系列

介電層顯影 光阻移除 光阻顯影 濕式清洗/光阻去除/蝕刻 電化學沉積 (ECD)

Phoenix 可為 510×515 公釐基板提供全自動大量面板製程。

Reliant 沉積產品

Reliant 系統 化學氣相沉積(CVD) 脈衝雷射沉積(PLD) 電漿輔助化學氣相沉積(PECVD) 高密度電漿化學氣相沉積(HDP-CVD)

我們的 Reliant 沉積產品可實現特殊製程藍圖,並延長晶圓廠的生產壽命。

Reliant 清洗產品

Reliant 系統 濕式清洗/光阻去除/蝕刻

我們的 Reliant 清洗產品可實現特殊製程藍圖,並延長晶圓廠的生產壽命。

Reliant 蝕刻產品

Reliant 系統 反應離子蝕刻(RIE) 深反應離子蝕刻(DRIE)

我們的 Reliant 蝕刻產品可實現特殊製程藍圖,並延長晶圓廠的生產壽命。

SEMulator3D

Semiconductor Process Modeling

SEMulator3D® is a semiconductor process modeling platform that offers wide ranging technology development capabilities.

SENSE.I系列產品

Atomic Layer Etch (ALE) Deep Reactive Ion Etch (DRIE) 深反應離子蝕刻(DRIE)

採用緊湊、高密度的結構設計,Lam Research突破性的Sense.i™平台具備無與倫比的系統智慧,能以最高生產力實現製程效能。

SPEED系列產品

高密度電漿化學氣相沉積(HDP-CVD)

這些介電層沉積產品可為高深寬比間隔提供完整的間隙填充,並具備業界領先的生產量與可靠度。

SP系列產品

濕式清洗/光阻去除/蝕刻

這款通過驗證的產品提供可靠、具成本效益的濕式清洗/濕式蝕刻解決方案,可輕柔地去除晶圓上的不必要材料。

Triton 產品系列

濕式清洗/光阻去除/蝕刻 電化學沉積 (ECD)

Triton 平台是用於單晶圓電鍍和濕式製程的多功能模組化解決方案。

VECTOR系列產品

電漿輔助化學氣相沉積(PECVD)

Lam Research的 PECVD產品能以高生產力為各種元件應用提供精密的介電層薄膜沉積。

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