Optoelectronics & Photonics | Our Solutions | Lam Research

光電素子 & 光通信デバイス

光集積回路(Photonic Integrated Circuit:PIC)はエレクトロニクスのICと似ていますが、PICは信号の伝達に電気だけでなく、電気と光の両方を使います。光信号をも用いることで帯域の拡大と高速通信を小電力で実現できます。光電素子は家庭への高速インターネット接続など、通信分野で高い実績があります。特にデータセンターなどの設備向けなどにPICの需要が急速に伸びています。高性能な上に低消費電力で、かつ効率的なシステム構築が可能になるためです。このように、光電システムは今後も高い需要の伸びが期待され、そのために信頼性が高く、コスト効率の良い生産技術が必要になるのです。


光電素子 & 光通信デバイス

ラムリサーチのソリューション

Coventor Product Family

Plasma Modeling Semiconductor Process Modeling

Our semiconductor process modeling software (SEMulator3D) and plasma modeling software (OverViz) perform predictive modeling of etch, deposition, plasma & other processes, to identify problems prior to fabrication.

DSIE シリーズ製品

ディープリアクティブ・イオンエッチング(DRIE)

このシリーズ製品は、クリティカル・非クリティカルを問わず、ディープシリコンエッチング用途に対し、優れた生産性の高いプロセス制御を提供します。

DV-PRIME & DA VINCI シリーズ

ウェットクリーニング/ストリップ/エッチング

これらの製品は製造工程全体にわたる複数のウェハクリーニングステップにおいて求められる高い生産性と柔軟性を実現するプロセスを提供します。

FLEX シリーズ製品

Atomic Layer Etch (ALE) リアクティブ・イオンエッチング(RIE)

ラムリサーチの酸化膜エッチシステムは、先進のデバイスに求められる複雑な構造を備えた幅広いアプリケーションに配慮した機能を提供します。

RELIANT クリーニング製品

RELIANT システム ウェットクリーニング/ストリップ/エッチング

ラムリサーチの RELIANTクリーニング製品は、スペシャルティ・テクノロジーのロードマップを実現し、ファブの生産寿命を延ばします。

RELIANTエッチング製品

RELIANT システム ディープリアクティブ・イオンエッチング(DRIE) リアクティブ・イオンエッチング(RIE)

当社の RELIANT エッチング製品は、スペシャルティ・テクノロジーのロードマップを実現し、ファブの生産寿命を延ばします。

RELIANT成膜製品

RELIANT システム パルスレーザー堆積(PLD) プラズマ化学気相成長(PECVD) 化学気相成長(CVD) 高密度プラズマ化学気相成長(HDP-CVD)

RELIANT 成膜製品は、スペシャルティ・テクノロジーのロードマップを実現し、ファブの生産寿命を延ばします。

SEMulator3D

Semiconductor Process Modeling

SEMulator3D® is a semiconductor process modeling platform that offers wide ranging technology development capabilities.

SENSE.I製品

Atomic Layer Etch (ALE) ディープリアクティブ・イオンエッチング(DRIE)

私たちの最新エッチング装置のプラットフォームは、最高の生産性でプロセスパフォーマンスを提供するコンパクトで高密度のアーキテクチャで比類のないシステムインテリジェンスを実現します。

SP シリーズ製品

ウェットクリーニング/ストリップ/エッチング

この実証済みの製品ファミリーは、ウェハから不要な材料を無理なく除去する、高信頼性、高コスト効率のウェットクリーニング/ウェットエッチングソリューションを提供します 。

SPEED シリーズ製品

高密度プラズマ化学気相成長(HDP-CVD)

これらの酸化膜成膜製品は、業界最高のスループットと信頼性を備えた高アスペクト比スペースの完全なギャップフィル機能を提供します。

VECTOR シリーズ製品

プラズマ化学気相成長(PECVD)

ラムリサーチ社のPECVD製品ファミリーは、幅広いデバイスアプリケーションに対応した高い生産性の精密な酸化膜成膜を提供します。

カリスト製品シリーズ

Dielectric Developement PR ストリップ PR 現像 ウェットクリーニング/ストリップ/エッチング 電解メッキ (ECD)

半導体業界のニーズに合わせた、300×300mmからGen5.1(1100x1300mm)までの基材をウェット処理するための先進的な縦型加工プラットフォーム。

ギャラクシー製品シリーズ

ウェットクリーニング/ストリップ/エッチング

ギャラクシープラットフォームは、バッチウェハ加工における長年の経験と、通常はシングルウェハツールにしかない高度なプロセス制御を兼ね備えています。

トリトン製品シリーズ

ウェットクリーニング/ストリップ/エッチング 電解メッキ (ECD)

トリトンプラットフォームは、シングルウェハめっきおよびウェット処理用の汎用性の高いモジュール式ソリューションです。

フェニックス製品シリーズ

Dielectric Developement PR ストリップ PR 現像 ウェットクリーニング/ストリップ/エッチング 電解メッキ (ECD)

フェニックスは510x515mm 基板用の全自動大量パネル加工を提供します。

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