Solution: Optoelectronics & Photonics
DSIE シリーズ製品
DRIE
このシリーズ製品は、クリティカル・非クリティカルを問わず、ディープシリコンエッチング用途に対し、優れた生産性の高いプロセス制御を提供します。
DV-PRIME & DA VINCI シリーズ
Spin Wet Clean
これらの製品は製造工程全体にわたる複数のウェハクリーニングステップにおいて求められる高い生産性と柔軟性を実現するプロセスを提供します。
FLEX シリーズ製品
Atomic Layer Etch (ALE) Reactive Ion Etch
ラムリサーチの酸化膜エッチシステムは、先進のデバイスに求められる複雑な構造を備えた幅広いアプリケーションに配慮した機能を提供します。
RELIANTエッチング製品
Reliant Systems Spin Wet Clean
ラムリサーチの新品および再生されたReliant製品は、コンダクター膜、酸化膜、および金属エッチング アプリケーションにおいて低所有コストで、高信頼性、実証済みのソリューションを提供します。
RELIANTクリーン製品
Chemical Vapor Deposition (CVD) High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition (HDP-CVD) Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reliant Systems
ラムリサーチの新品および再生されたReliant製品は、フロントサイドならびにバックサイド/ベベルのクリーニングにおいて低所有コスト、高信頼性、実証済みのソリューションを提供します。
RELIANTデポジション製品
DRIE Reactive Ion Etch Reliant Systems
一新および再生されたReliant製品は、酸化膜アプリケーションにおいて低所有コスト（低いランニングコスト）、高信頼性、実証済みのソリューションを提供します。
SENSE.I製品
Atomic Layer Etch (ALE) DRIE
私たちの最新エッチング装置のプラットフォームは、最高の生産性でプロセスパフォーマンスを提供するコンパクトで高密度のアーキテクチャで比類のないシステムインテリジェンスを実現します。
SP シリーズ製品
Spin Wet Clean
この実証済みの製品ファミリーは、ウェハから不要な材料を無理なく除去する、高信頼性、高コスト効率のウェットクリーニング/ウェットエッチングソリューションを提供します 。
SPEED シリーズ製品
High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition (HDP-CVD)
これらの酸化膜成膜製品は、業界最高のスループットと信頼性を備えた高アスペクト比スペースの完全なギャップフィル機能を提供します。
VECTOR シリーズ製品
Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)
ラムリサーチ社のPECVD製品ファミリーは、幅広いデバイスアプリケーションに対応した高い生産性の精密な酸化膜成膜を提供します。