Solution: Patterning
CORONUSシリーズ製品
Plasma Bevel Clean
これらのベベルクリーンシステムは、ウェハのエッジから不要な材料を除去すると共にアクティブなダイ領域を保護し、ダイの歩留まりを向上させます。
DV-PRIME & DA VINCI シリーズ
Spin Wet Clean
これらの製品は製造工程全体にわたる複数のウェハクリーニングステップにおいて求められる高い生産性と柔軟性を実現するプロセスを提供します。
EOS シリーズ製品
ラムリサーチの先進的なウェットクリーン製品は、厳しい要求条件の用途に対して高スループットで不良率が低いウェハ生産を可能にします。
FLEX シリーズ製品
Atomic Layer Etch (ALE) Reactive Ion Etch
ラムリサーチの酸化膜エッチシステムは、先進のデバイスに求められる複雑な構造を備えた幅広いアプリケーションに配慮した機能を提供します。
GAMMAシリーズ製品
Dry Strip
これらの製品は、各種のクリティカルなフォトレジスト ストリップ アプリケーションに対応した高いプロセス柔軟性を提供します。
KIYO シリーズ製品
Reactive Ion Etch
業界をリードするコンダクターエッチング製品は、クリティカルなデバイス機能に必要な高精度と高い生産性での制御を実現します。
METRYX シリーズ製品
Mass Metrology
ラムリサーチの質量計測システムは、高度なプロセス監視と3次元デバイス構造の制御により、サブミリグラムレベルの計測能力を提供します。
RELIANTエッチング製品
Reliant Systems Spin Wet Clean
ラムリサーチの新品および再生されたReliant製品は、コンダクター膜、酸化膜、および金属エッチング アプリケーションにおいて低所有コストで、高信頼性、実証済みのソリューションを提供します。
RELIANTクリーン製品
Chemical Vapor Deposition (CVD) High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition (HDP-CVD) Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reliant Systems
ラムリサーチの新品および再生されたReliant製品は、フロントサイドならびにバックサイド/ベベルのクリーニングにおいて低所有コスト、高信頼性、実証済みのソリューションを提供します。
RELIANTデポジション製品
DRIE Reactive Ion Etch Reliant Systems
一新および再生されたReliant製品は、酸化膜アプリケーションにおいて低所有コスト（低いランニングコスト）、高信頼性、実証済みのソリューションを提供します。