电化学沉积 (ECD) Archives - Lam Research

Technology: 电化学沉积 (ECD)

Kallisto 产品系列

电化学沉积 (ECD)

先进的立式加工平台,用于对 300×300 毫米 至 5.1 代(1100×1300 毫米)的基板进行湿法化学制备,以满足半工业的需求。

Phoenix 产品系列

光刻胶去除 光刻胶显影 湿法清洗/去胶/刻蚀 电化学沉积 (ECD)

Phoenix 可为 510×515 毫米的基板提供全自动大批量面板加工。

SABRE 3D产品系列

电化学沉积 (ECD)

利用Lam公司成熟的Electrofill技术,这些高生产率的系统可为先进封装应用提供高质量的金属薄膜。

SABRE产品系列

电化学沉积 (ECD)

该产品系列广泛应用于大马士革工艺上,提供精密的金属铜电镀。

Triton 产品系列

湿法清洗/去胶/刻蚀 电化学沉积 (ECD)

Triton 平台是用于单晶圆电镀和湿法工艺的多功能模块化解决方案。

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