증착 공정은 반도체 소자를 만들 때 사용되는 유전(절연) 및 금속(전도) 재료 층을 형성하며, 재료의 유형과 형성되는 구조에 따라 다양한 기법이 사용됩니다. 전자기계 증착(ECD)에서는 소자를 집적 회로에 연결하는 구리 “배선”이 만들어집니다. 실리콘 관통 전극과 웨이퍼 수준의 패키징에는 구리와 기타 금속의 금속 도금도 사용됩니다. 작은 텅스텐 커넥터와 가는 보호막은 한 번에 단 몇 개의 원자층을 추가하는 정밀한 화학 증기 증착(CVD)과 원자층 증착(ALD)을 통해 만들어집니다. 플라스마 강화 CVD(PECVD), 고정밀 플라스마 CVD(HDP-CVD) 및 ALD는 이 모든 전기 구조물을 분리하고 보호하는 임계 절연층을 형성할 때 사용됩니다. 펄스 레이저 증착(PLD)은 고성능 압전층을 형성하는 데 사용됩니다. PLD는 고펄스 에너지 레이저로 물질에 에너지를 공급하여 증착 증기를 생성하는 물리적 증착 방법으로, 다양한 기판에 박막층을 증착합니다.
램리서치의 박막 증착 제품은 다양하고 까다로운 소자 부문에서 수많은 재료와 복잡한 피처를 다룰 때 필요한 뛰어난 정밀성, 성능, 유연성을 갖추고 있습니다.
램리서치 제품
Lam Research hopes to revolutionize microchip manufacturing with the launch of a new system: Prestis™. Why it matters: For the first time in semiconductor production, Lam is using lasers to deposit thin films and bringing pulsed laser deposition (PLD) to wafer-level mass production. Prestis is expected to be key in developing cutting-edge specialty technologies devices, such as RF (radio frequency) filters for 5G and Wi-Fi 6 and high-end MEMS (micro-electromechanical systems) microphones.
For more than 15 years, Lam’s Coronus® product family has been the leader in wafer bevel technology. Today we introduced the newest member of the family, Coronus DX. It’s the industry’s first bevel deposition solution optimized to tackle key manufacturing challenges in next-gen logic, 3D NAND and advanced packaging applications.