Solution： 分立与功率器件

我们的 Reliant 清洗产品可实现特色工艺路线图，并延长晶圆厂的生产设备利用年限。

这些介电质沉积产品提供高深宽比空间的完全间隙填充，具有行业领先的产量和可靠性。

这些经过验证的产品系列可提供可靠的、成本效益高的湿清洗/湿刻蚀解决方案，可温和地去除晶片上不需要的材料。

Triton 平台是用于单晶圆电镀和湿法工艺的多功能模块化解决方案。

Lam的PECVD产品系列为广泛的器件应用提供了高生产率的精密介电薄膜沉积。

这些金属刻蚀产品为电互连和金属硬掩模应用提供了高生产率的极佳工艺控制。