分立式器件与电源器件解决方案

这些产品为若干关键和非关键深硅刻蚀应用提供了高生产率的特殊工艺控制。

这些产品提供了所需的工艺灵活性和高生产率，以解决整个制造过程中的多个晶片清洗步骤。

Lam的介电刻蚀设备能够刻蚀各种具有挑战性的结构，以应用在先进器件上。

先进的立式加工平台，用于对 300×300 毫米 至 5.1 代（1100×1300 毫米）的基板进行湿法化学制备，以满足半工业的需求。

Lam市场领先的导体刻蚀产品能够为关键器件在保障高生产率的前提下提供所需的高精度和控制。

Lam的质量计量系统为先进的工艺监测和三维设备结构控制提供了微克级别的测量能力。

OverViz™ 是一个用于等离子体放电高保真建模的工业仿真软件平台。

Phoenix 可为 510×515 毫米的基板提供全自动大批量面板加工。

我们的 Reliant 刻蚀产品可实现特色工艺路线图，并延长晶圆厂的生产设备利用年限。

我们的 Reliant 沉积产品可实现特色工艺路线图，并延长晶圆厂的生产设备利用年限。

我们的 Reliant 清洗产品可实现特色工艺路线图，并延长晶圆厂的生产设备利用年限。

这些介电质沉积产品提供高深宽比空间的完全间隙填充，具有行业领先的产量和可靠性。

这些经过验证的产品系列可提供可靠的、成本效益高的湿清洗/湿刻蚀解决方案，可温和地去除晶片上不需要的材料。

Triton 平台是用于单晶圆电镀和湿法工艺的多功能模块化解决方案。

Lam的PECVD产品系列为广泛的器件应用提供了高生产率的精密介电薄膜沉积。

这些金属刻蚀产品为电互连和金属硬掩模应用提供了高生产率的极佳工艺控制。