Discretes & Power Devices | Our Solutions | Lam Research

ディスクリート & パワーデバイス

ディスクリート・デバイスとはダイオードやトランジスタなど、集積されていない個別の半導体です。パワー・トランジスタはディスクリート・デバイスの中でも電圧制御、消費電力削減、発熱の抑制など、特定の用途に使用される特別なデバイスです。例えば、携帯電子デバイスのバッテリーを長持ちさせるための回路では重要な部品となります。最近注目されている広帯域パワーデバイス(GaN やSiCなど)は一般的な電子デバイス向けの小電力・大電力双方の高周波回路の他、送電・エネルギ・運輸・自動車などの各産業向けの大電力システムでも活躍します。シリコンや広禁制帯幅材料をもとに作られる主なパワーデバイスには、パワー・ダイオード、サイリスタ、パワーMOSFET、絶縁ゲート型バイポーラ・トランジスタ(Insulated Gate Bipolar Transistors:IGBT)などがあります。この種類のデバイスは信頼性が高く、生産性の高い設備で安価に生産することが重要です。


ディスクリート & パワーデバイス

ラムリサーチのソリューション

DSIE シリーズ製品

ディープリアクティブ・イオンエッチング(DRIE)

このシリーズ製品は、クリティカル・非クリティカルを問わず、ディープシリコンエッチング用途に対し、優れた生産性の高いプロセス制御を提供します。

DV-PRIME & DA VINCI シリーズ

ウェットクリーニング/ストリップ/エッチング

これらの製品は製造工程全体にわたる複数のウェハクリーニングステップにおいて求められる高い生産性と柔軟性を実現するプロセスを提供します。

FLEX シリーズ製品

Atomic Layer Etch (ALE) リアクティブ・イオンエッチング(RIE)

ラムリサーチの酸化膜エッチシステムは、先進のデバイスに求められる複雑な構造を備えた幅広いアプリケーションに配慮した機能を提供します。

KIYO シリーズ製品

リアクティブ・イオンエッチング(RIE)

業界をリードするコンダクターエッチング製品は、クリティカルなデバイス機能に必要な高精度と高い生産性での制御を実現します。

METRYX シリーズ製品

Mass Metrology

ラムリサーチの質量計測システムは、高度なプロセス監視と3次元デバイス構造の制御により、サブミリグラムレベルの計測能力を提供します。

RELIANT クリーニング製品

RELIANT システム ウェットクリーニング/ストリップ/エッチング

ラムリサーチの RELIANTクリーニング製品は、スペシャルティ・テクノロジーのロードマップを実現し、ファブの生産寿命を延ばします。

RELIANTエッチング製品

RELIANT システム ディープリアクティブ・イオンエッチング(DRIE) リアクティブ・イオンエッチング(RIE)

当社の RELIANT エッチング製品は、スペシャルティ・テクノロジーのロードマップを実現し、ファブの生産寿命を延ばします。

RELIANT成膜製品

RELIANT システム パルスレーザー堆積(PLD) プラズマ化学気相成長(PECVD) 化学気相成長(CVD) 高密度プラズマ化学気相成長(HDP-CVD)

RELIANT 成膜製品は、スペシャルティ・テクノロジーのロードマップを実現し、ファブの生産寿命を延ばします。

SENSE.I製品

Atomic Layer Etch (ALE) ディープリアクティブ・イオンエッチング(DRIE)

私たちの最新エッチング装置のプラットフォームは、最高の生産性でプロセスパフォーマンスを提供するコンパクトで高密度のアーキテクチャで比類のないシステムインテリジェンスを実現します。

SP シリーズ製品

ウェットクリーニング/ストリップ/エッチング

この実証済みの製品ファミリーは、ウェハから不要な材料を無理なく除去する、高信頼性、高コスト効率のウェットクリーニング/ウェットエッチングソリューションを提供します 。

SPEED シリーズ製品

高密度プラズマ化学気相成長(HDP-CVD)

これらの酸化膜成膜製品は、業界最高のスループットと信頼性を備えた高アスペクト比スペースの完全なギャップフィル機能を提供します。

VECTOR シリーズ製品

プラズマ化学気相成長(PECVD)

ラムリサーチ社のPECVD製品ファミリーは、幅広いデバイスアプリケーションに対応した高い生産性の精密な酸化膜成膜を提供します。

VERSYS METAL シリーズ製品

リアクティブ・イオンエッチング(RIE)

これらのメタルエッチング製品は、電気配線およびメタルハードマスク用途向けに高い生産性を備えたプロセス制御を提供します。

カリスト製品シリーズ

Dielectric Developement PR ストリップ PR 現像 ウェットクリーニング/ストリップ/エッチング 電解メッキ (ECD)

半導体業界のニーズに合わせた、300×300mmからGen5.1(1100x1300mm)までの基材をウェット処理するための先進的な縦型加工プラットフォーム。

ギャラクシー製品シリーズ

ウェットクリーニング/ストリップ/エッチング

ギャラクシープラットフォームは、バッチウェハ加工における長年の経験と、通常はシングルウェハツールにしかない高度なプロセス制御を兼ね備えています。

トリトン製品シリーズ

ウェットクリーニング/ストリップ/エッチング 電解メッキ (ECD)

トリトンプラットフォームは、シングルウェハめっきおよびウェット処理用の汎用性の高いモジュール式ソリューションです。

フェニックス製品シリーズ

Dielectric Developement PR ストリップ PR 現像 ウェットクリーニング/ストリップ/エッチング 電解メッキ (ECD)

フェニックスは510x515mm 基板用の全自動大量パネル加工を提供します。

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