Semiconductor Process Modeling
SEMulator3D® is a semiconductor process modeling platform that offers wide ranging technology development capabilities.
Deep Reactive Ion Etch (DRIE) 反应离子刻蚀（RIE）
泛林集团最新推出的刻蚀产品系列，以其既小巧又高精度的架构打造了独一无二的的智能系统，以提供超高产率的处理性能。
Atomic Layer Deposition (ALD)
使用先进的ALD技术，这些产品提供纳米级尺寸下器件关键工艺所需的介电薄膜。
等离子体增强化学气相沉积（PECVD）
Lam的PECVD产品系列为广泛的器件应用提供了高生产率的精密介电薄膜沉积。
反应离子刻蚀（RIE）
这些金属刻蚀产品为电互连和金属硬掩模应用提供了高生产率的极佳工艺控制。
Selective Etch 选择性刻蚀
突破性产品组合以埃米级精度和超高选择性为 3D 架构和先进逻辑和晶圆代工应用提供各向同性的材料去除。
