Semiconductor Process Modeling
SEMulator3D® is a semiconductor process modeling platform that offers wide ranging technology development capabilities.
Deep Reactive Ion Etch (DRIE) 反應離子蝕刻（RIE）
採用緊湊、高密度的結構設計，Lam Research突破性的Sense.i™平台具備無與倫比的系統智慧，能以最高生產力實現製程效能。
Atomic Layer Deposition (ALD)
利用先進的ALD技術，這些產品可為介電層薄膜提供優異的控制能力，以建構關鍵製程中具備奈米級結構的先進元件。
電漿輔助化學氣相沉積（PECVD）
Lam Research的 PECVD產品能以高生產力為各種元件應用提供精密的介電層薄膜沉積。
反應離子蝕刻（RIE）
這些金屬蝕刻產品能以高生產力為電性連接和金屬硬式罩幕應用提供優異的製程控制能力。
Selective Etch 選擇性蝕刻
突破性的産品組合可提供埃米等級的精密度和超高選擇性、等向性材料的去除能力，以滿足3D結構和先進邏輯晶片與晶圓製造應用需求。
