テクノロジーの未来は、スマートフォンやタブレット、コンピューター、ゲームシステムといった電子機器の普及拡大によって形作られつつあります。 人工知能(AI)の進展は、より高効率、より高性能な処理ハードウェアへの需要を加速させています。 半導体製造技術における主要な進歩は、微細化、コストパフォーマンス、そして接続性の向上に重点を置いています。
次世代デバイスの要求に応えるためには、先端パッケージング技術およびチップレット設計が不可欠となっています。 ウェハレベルパッケージング(WLP)や、3Dシリコン貫通ビア(TSV)インターコネクト、ハイブリッドボンディングなどの技術が注目を集めており、ヘテロジニアス・インテグレーションやシステム・イン・パッケージ(SiP)といったソリューションの実現を可能にしています。 生成AIによって牽引される計算能力への飽くなき需要は、パッケージサイズの限界を押し広げており、大判のパネルレベルパッケージングや先端ガラス基板といったハイパフォーマンス コンピューティング(HPC)の未来を支える新技術の台頭を後押ししています。 これらの革新により、複数のチップを単一のパッケージ内に統合することが可能となり、デバイスの性能と設計における新たな時代が到来しています。
Lamのソリューション
電解メッキおよびウェットプロセス(フォトレジストの除去、エッチング、洗浄)における最先端のソリューションを提供
高アスペクト比エッチング(TSV、TDV、TGV) やプラズマダイシングなどの先端パッケージングにおける技術的課題を克服する高生産性ソリューション
PECVD、ALD、およびCVDメタル向けの差別化されたソリューション。 先端パッケージング向けのさまざまな成膜要件に対応:高接合強度の絶縁膜、高品質なダイ間ギャップフィル膜、ウェハ応力および形状管理のための膜応力制御性など
新たな先端パッケージング技術における課題を克服する革新的ソリューション。例:ウェハ・トゥウェハ接合の歩留まり改善に向けたウェハベベル管理、質量計測による高スループットなプロセス管理など
ウェハレベルのプロセス技術・性能・歩留まりをパネルレベルプロセスへと移行・拡張。 Cu RDL、マイクロバンプ、TGV、Cuビルドアップ電解めっき、PR/PI剥離/現像、エッチング、粗化、洗浄など、ウェットパネルプロセス向けの差別化されたソリューションを提供します。