光電素子 & 光通信デバイス


ラムリサーチのソリューション

光電素子 & 光通信デバイス

DSIE シリーズ製品

深掘り反応性イオンエッチング(DRIE)

このシリーズ製品は、クリティカル・非クリティカルを問わず、ディープシリコンエッチング用途に対し、優れた生産性の高いプロセス制御を提供します。

DV-PRIME & DA VINCI シリーズ

湿式洗浄

これらの製品は製造工程全体にわたる複数のウェハクリーニングステップにおいて求められる高い生産性と柔軟性を実現するプロセスを提供します。

Fabtex™ Yield Optimizer

半導体歩留まり最適化プラットフォーム

Fabtex™ Yield Optimizer is a cutting-edge software platform designed to help semiconductor foundries accelerate yield ramp and improve high-volume manufacturing performance.

FLEX シリーズ製品

原子層エッチング反応性イオンエッチング(RIE)極低温エッチング

ラムリサーチの酸化膜エッチシステムは、先進のデバイスに求められる複雑な構造を備えた幅広いアプリケーションに配慮した機能を提供します。

カリスト製品シリーズ

電気化学堆積(ECD)

半導体業界のニーズに合わせた、300×300mmからGen5.1(1100x1300mm)までの基材をウェット処理するための先進的な縦型加工プラットフォーム。

OverViz

プラズマモデリング

OverViz™は、プラズマ放電を忠実にモデリングするための産業用シミュレーションソフトウェア・プラットフォームです。

フェニックス製品シリーズ

ウェット洗浄/ストリップフォトレジスト剥離フォトレジスト現像電気化学堆積(ECD)

フェニックスは510x515mm 基板用の全自動大量パネル加工を提供します。

RELIANT クリーニング製品

ウェット洗浄/ストリップリライアント・システムズ

ラムリサーチの RELIANTクリーニング製品は、スペシャルティ・テクノロジーのロードマップを実現し、ファブの生産寿命を延ばします。

RELIANT成膜製品

パルスレーザー堆積法(PLD)プラズマ化学気相成長法(PECVD)リライアント・システムズ高密度プラズマ化学気相成長法(HDP-CVD)

RELIANT 成膜製品は、スペシャルティ・テクノロジーのロードマップを実現し、ファブの生産寿命を延ばします。

RELIANTエッチング製品

リライアント・システムズ反応性イオンエッチング(RIE)深掘り反応性イオンエッチング(DRIE)

当社の RELIANT エッチング製品は、スペシャルティ・テクノロジーのロードマップを実現し、ファブの生産寿命を延ばします。

SEMulator3D

半導体プロセスモデリング

半導体プロセスモデリング・プラットフォーム SEMulator3D® は広範囲にわたる技術開発環境を提供します。

SP シリーズ製品

ウェット洗浄

この実証済みの製品ファミリーは、ウェハから不要な材料を無理なく除去する、高信頼性、高コスト効率のウェットクリーニング/ウェットエッチングソリューションを提供します 。

SPEED シリーズ製品

高密度プラズマ化学気相成長法(HDP-CVD)

これらの酸化膜成膜製品は、業界最高のスループットと信頼性を備えた高アスペクト比スペースの完全なギャップフィル機能を提供します。

トリトン製品シリーズ

ウェット洗浄/ストリップ電気化学堆積(ECD)

トリトンプラットフォームは、シングルウェハめっきおよびウェット処理用の汎用性の高いモジュール式ソリューションです。

VECTOR シリーズ製品

プラズマ化学気相成長法(PECVD)

ラムリサーチ社のPECVD製品ファミリーは、幅広いデバイスアプリケーションに対応した高い生産性の精密な酸化膜成膜を提供します。