Sensors & Transducers | Our Solutions | Lam Research

传感器与换能器解决方案

换能器是将某种能量——如光能、动能、热能或化学反应能——从一种形式转化成另一种形式的器件。例如,致动器就是一种把能量转换成动能的换能器。当换能器的输出将能量转换成可读形式(模拟或数字表示)时,则被称为传感器。有多种类型的换能器和传感器用于转换和测量周边环境中产生的信号,其应用范围不断扩大。虽然不必采用最新一代的加工设备生产这些器件,但却需要开发相应的工艺,以支持许多独特的器件设计。另外,有些生产步骤涉及其他器件类型未使用的材料,如压电薄膜。因此,设备技术性能、可靠性、生产力和整体成本效益都至关重要。


传感器与换能器

我们的解决方案

Coventor Product Family

Plasma Modeling Semiconductor Process Modeling

Our semiconductor process modeling software (SEMulator3D) and plasma modeling software (OverViz) perform predictive modeling of etch, deposition, plasma & other processes, to identify problems prior to fabrication.

DSiE Product Family

深反应离子刻蚀(DRIE)

这些产品为若干关键和非关键深硅刻蚀应用提供了高生产率的特殊工艺控制。

DV-PRIME和DA VINCI产品

湿法清洗

这些产品提供了所需的工艺灵活性和高生产率,以解决整个制造过程中的多个晶片清洗步骤。

KIYO产品系列

反应离子刻蚀(RIE)

Lam市场领先的导体刻蚀产品能够为关键器件在保障高生产率的前提下提供所需的高精度和控制。

METRYX产品系列

Mass Metrology

Lam的质量计量系统为先进的工艺监测和三维设备结构控制提供了微克级别的测量能力。

OverViz

Plasma Modeling

OverViz™ is an industrial simulation software platform for high-fidelity modeling of plasma discharges.

Pulsus Product Family

脉冲激光沉积(PLD)

Our Pulsus product family provides thin film deposition solutions for a wide range of complex multi-element materials for Specialty Technologies applications.

Reliant 刻蚀产品

Reliant 设备 反应离子刻蚀(RIE) 深反应离子刻蚀(DRIE)

我们的 Reliant 刻蚀产品可实现特色工艺路线图,并延长晶圆厂的生产设备利用年限。

Reliant 沉积产品

Reliant 设备 化学气相沉积(CVD) 等离子体增强化学气相沉积(PECVD) 脉冲激光沉积(PLD) 高密度等离子体化学气相沉积(HDP-CVD)

我们的 Reliant 沉积产品可实现特色工艺路线图,并延长晶圆厂的生产设备利用年限。

Reliant 清洗产品

Reliant 设备 湿法清洗/去胶/刻蚀

我们的 Reliant 清洗产品可实现特色工艺路线图,并延长晶圆厂的生产设备利用年限。

SEMulator3D

Semiconductor Process Modeling

SEMulator3D® is a semiconductor process modeling platform that offers wide ranging technology development capabilities.

SENSE.I产品系列

Atomic Layer Etch (ALE) Deep Reactive Ion Etch (DRIE) 深反应离子刻蚀(DRIE)

泛林集团最新推出的刻蚀产品系列,以其既小巧又高精度的架构打造了独一无二的的智能系统,以提供超高产率的处理性能。

SPEED产品系列

高密度等离子体化学气相沉积(HDP-CVD)

这些介电质沉积产品提供高深宽比空间的完全间隙填充,具有行业领先的产量和可靠性。

SP系列产品

湿法清洗

这些经过验证的产品系列可提供可靠的、成本效益高的湿清洗/湿刻蚀解决方案,可温和地去除晶片上不需要的材料。

Syndion 产品系列

反应离子刻蚀(RIE) 深反应离子刻蚀(DRIE)

对于深刻蚀应用,此产品系列提供了关键高纵横比特征所需的卓越的跨晶片均匀性控制。

VECTOR产品系列

等离子体增强化学气相沉积(PECVD)

Lam的PECVD产品系列为广泛的器件应用提供了高生产率的精密介电薄膜沉积。

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