トランスデューサとはエネルギの形態を変換するデバイスです。光、運動、熱、化学反応などのエネルギを別のエネルギ形態に変換するのです。例えばアクチュエータはエネルギーから機械的な運動を得るためのトランスデューサの一種です。特定のエネルギーを電気的（アナログ・デジタル）に読み取り可能な信号に変換する物はセンサーと呼ばれています。現在も多様なセンサやトランスデューサが私達の身の回りで、色々な現象を観測するのに使用されていますが、用途は更に拡大することが見込まれます。これらのデバイス製造には必ずしも最新の設備技術が必要ではありませんが、これらに特有な異形構造に対処できる個別プロセスが必要になります。また他のデバイス製造では見ることの無い、圧電薄膜等の特殊な材料を扱う工程もあります。それ故に設備の技術的機能、信頼性、生産性、トータルなコスト効率は極めて重要になります。
センサー & トランスデューサ
ラムリサーチのソリューション
DSIE シリーズ製品
DRIE
このシリーズ製品は、クリティカル・非クリティカルを問わず、ディープシリコンエッチング用途に対し、優れた生産性の高いプロセス制御を提供します。
DV-PRIME & DA VINCI シリーズ
Spin Wet Clean
これらの製品は製造工程全体にわたる複数のウェハクリーニングステップにおいて求められる高い生産性と柔軟性を実現するプロセスを提供します。
KIYO シリーズ製品
Reactive Ion Etch
業界をリードするコンダクターエッチング製品は、クリティカルなデバイス機能に必要な高精度と高い生産性での制御を実現します。
METRYX シリーズ製品
Mass Metrology
ラムリサーチの質量計測システムは、高度なプロセス監視と3次元デバイス構造の制御により、サブミリグラムレベルの計測能力を提供します。
RELIANTエッチング製品
Reliant Systems Spin Wet Clean
ラムリサーチの新品および再生されたReliant製品は、コンダクター膜、酸化膜、および金属エッチング アプリケーションにおいて低所有コストで、高信頼性、実証済みのソリューションを提供します。
RELIANTクリーン製品
Chemical Vapor Deposition (CVD) High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition (HDP-CVD) Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reliant Systems
ラムリサーチの新品および再生されたReliant製品は、フロントサイドならびにバックサイド/ベベルのクリーニングにおいて低所有コスト、高信頼性、実証済みのソリューションを提供します。
RELIANTデポジション製品
DRIE Reactive Ion Etch Reliant Systems
一新および再生されたReliant製品は、酸化膜アプリケーションにおいて低所有コスト（低いランニングコスト）、高信頼性、実証済みのソリューションを提供します。
SENSE.I製品
Atomic Layer Etch (ALE) DRIE
私たちの最新エッチング装置のプラットフォームは、最高の生産性でプロセスパフォーマンスを提供するコンパクトで高密度のアーキテクチャで比類のないシステムインテリジェンスを実現します。
SP シリーズ製品
Spin Wet Clean
この実証済みの製品ファミリーは、ウェハから不要な材料を無理なく除去する、高信頼性、高コスト効率のウェットクリーニング/ウェットエッチングソリューションを提供します 。
SPEED シリーズ製品
High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition (HDP-CVD)
これらの酸化膜成膜製品は、業界最高のスループットと信頼性を備えた高アスペクト比スペースの完全なギャップフィル機能を提供します。
Syndion製品ファミリー
DRIE Reactive Ion Etch
ディープエッチング用途では、高アスペクト比の重要な形状に必要な卓越したウェーハ全体にわたる均一性制御を提供します。
VECTOR シリーズ製品
Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)
ラムリサーチ社のPECVD製品ファミリーは、幅広いデバイスアプリケーションに対応した高い生産性の精密な酸化膜成膜を提供します。