칩의 “두뇌”인 트랜지스터는 전기의 흐름을 제어하는 작은 스위치로, 단일 집적 회로 안에 수십 억 개가 들어갈 수 있습니다.더 작고, 더 강력한 전자장치에 대한 요구 때문에 3D FinFET 디자인 같은 새로운 트랜지스터 아키텍처가 개발되고, 고유전/금속 게이트 같은 특수 재료가 사용되고 있습니다. 이 덕분에 소자 피처의 크기는 계속 작아지고 있습니다.현재 최신 트랜지스터는 치수가 원자 수준이기 때문에 제조하기가 매우 어렵습니다.이러한 고급 소자에 요구되는 높은 성능을 실현시키기 위해서는 작은 피처를 매우 정밀하게 제어해 가며 만들 수 있는 제조 능력이 필요합니다.
트랜지스터
램리서치 솔루션ALTUS 제품군
Atomic Layer Deposition (ALD) Chemical Vapor Deposition (CVD)
시장을 선도하는 CVD 및 ALD 기술 결합 시스템으로 첨단 텅스텐 금속 공정에 사용되는 고등각 금속막을 증착합니다.
CORONUS 제품군
Plasma Bevel Clean
이 베벨 세정 시스템은 활성 다이 영역을 보호하면서 웨이퍼 가장자리의 불필요한 물질을 제거하여 다이 수율을 높입니다.
DV-Prime & Da Vinci 제품군
Spin Wet Clean
제조 전반에 걸쳐 웨이퍼 세정의 여러 단계를 높은 생산성으로 처리하는 데 필요한 공정 유연성을 갖추고 있습니다.
EOS 제품군
램리서치의 고급 습식 세정 제품은 점차 까다로워지는 고처리량 분야에서 온웨이퍼(on-wafer) 결함을 크게 줄입니다.
FLEX 제품군
Atomic Layer Etch (ALE) Reactive Ion Etch
램리서치의 유전체 식각 시스템은 용도에 맞춘 기능 덕분에 고급 소자의 까다로운 구조를 다양하게 만들 수 있습니다.
GAMMA 제품군
Dry Strip
폭넓은 주요 포토레지스트 제거 분야에 필요한 공정 유연성을 갖췄습니다.
KIYO 제품군
Reactive Ion Etch
시장을 선도하는 램리서치의 전도체 식각 제품은 주요 소자 피처(feature)에 요구되는 고성능 정밀도와 제어력이 특징입니다.
METRYX 제품군
Mass Metrology
램리서치의 질량 계측 시스템에는 3차원 소자 구조의 첨단 공정 모니터링과 제어에 필요한 밀리그램 미만 단위의 측정 기능이 있습니다.
RELIANT CLEAN 제품
Reliant Systems Spin Wet Clean
램리서치의 새로 업그레이드된 Reliant 제품은 생산을 통해 검증된 뛰어난 신뢰성을 바탕으로 전면 및 후면/베벨 세정의 광범위한 분야에 사용할 수 있는 솔루션이며, 관리비도 적게 듭니다.
RELIANT DEPOSITION 제품
Chemical Vapor Deposition (CVD) High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition (HDP-CVD) Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reliant Systems
램리서치의 새로 업그레이드된 Reliant 제품은 생산을 통해 검증된 뛰어난 신뢰성을 바탕으로 유전막 분야에 사용할 수 있는 솔루션이며, 관리비도 적게 듭니다.
RELIANT ETCH 제품
DRIE Reactive Ion Etch Reliant Systems
램리서치의 새로 업그레이드된 Reliant 제품은 생산을 통해 검증된 뛰어난 신뢰성을 바탕으로 전도체, 유전체, 금속 식각 분야에 사용할 수 있는 솔루션이며, 관리비도 적게 듭니다.
SENSE.I 제품군
Atomic Layer Etch (ALE) Deep Reactive Ion Etch (DRIE) DRIE
램리서치의 최신 식각 플랫폼은 컴팩트한 고밀도 구조에 누구도 따라올 수 없는 시스템 지능을 갖추고 있어 공정 성능을 최고의 생산성으로 구현합니다.
SOLA 제품군
Ultraviolet Thermal Processing (UVTP)
이 제품군은 박막의 특수 증착 후처리를 통해 첨단 박막 분야에 필요한 물리적 특성을 개선합니다.
SPEED 제품군
High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition (HDP-CVD)
이 유전체 증착 제품은 업계 최고의 처리량과 신뢰성으로 고종횡비(high aspect ratio) 공간에 완벽한 갭필(gapfill)을 구현합니다.
Striker 제품군
Atomic Layer Deposition (ALD)
첨단 ALD 기술을 사용하여 나노 수준의 피처가 있는 고급 소자의 주요 공정을 완벽하게 제어하는 유전막을 제공합니다.
VECTOR 제품군
Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)
램리서치의 PECVD 제품군은 광범위한 소자 분야에서 높은 생산성으로 고정밀 유전막 증착을 실현합니다.
고선택비 식각 제품군
Selective Etch 선택적 식각
획기적인 고선택비 식각 장비 포트폴리오는 3D 구조와 첨단 로직 및 파운드리 애플리케이션을 위한 옹스트롬(Å) 수준의 정밀도와 초고도 선택비 기반의 역량으로 등방성 식각을 지원합니다.