チップの「頭脳」たるトランジスタは電気の流れを制御する微小なスイッチです。一つのICに文字通り何10億個ものトランジスタが乗っています。より小さく、よりパワフルな電子機器を求める需要の高まりに促され、3D FinFET のような新しい構造のトランジスタや High-kゲート絶縁膜/メタルゲートのような新材料が開発されています。それにより、更なる微細化の進展が可能になっているのです。最新世代のトランジスタ寸法は原子数個分にまで来ており、それ故に製造は困難を極めます。こうした先端デバイスが設計意図通りの性能を発揮できるよう製造するには、並外れた制御精度で微細加工を行う能力が必要なのです。
トランジスタ
ラムリサーチのソリューションALTUSシリーズ製品
Atomic Layer Deposition (ALD) Chemical Vapor Deposition (CVD)
CVD技術とALD技術を組み合わせることで、先進的なタングステンメタライゼーション用途の高度なコンフォーマル金属膜を成膜します。
CORONUSシリーズ製品
Plasma Bevel Clean
これらのベベルクリーンシステムは、ウェハのエッジから不要な材料を除去すると共にアクティブなダイ領域を保護し、ダイの歩留まりを向上させます。
DV-PRIME & DA VINCI シリーズ
Spin Wet Clean
これらの製品は製造工程全体にわたる複数のウェハクリーニングステップにおいて求められる高い生産性と柔軟性を実現するプロセスを提供します。
EOS シリーズ製品
ラムリサーチの先進的なウェットクリーン製品は、厳しい要求条件の用途に対して高スループットで不良率が低いウェハ生産を可能にします。
FLEX シリーズ製品
Atomic Layer Etch (ALE) Reactive Ion Etch
ラムリサーチの酸化膜エッチシステムは、先進のデバイスに求められる複雑な構造を備えた幅広いアプリケーションに配慮した機能を提供します。
GAMMAシリーズ製品
Dry Strip
これらの製品は、各種のクリティカルなフォトレジスト ストリップ アプリケーションに対応した高いプロセス柔軟性を提供します。
KIYO シリーズ製品
Reactive Ion Etch
業界をリードするコンダクターエッチング製品は、クリティカルなデバイス機能に必要な高精度と高い生産性での制御を実現します。
METRYX シリーズ製品
Mass Metrology
ラムリサーチの質量計測システムは、高度なプロセス監視と3次元デバイス構造の制御により、サブミリグラムレベルの計測能力を提供します。
RELIANTエッチング製品
Reliant Systems Spin Wet Clean
ラムリサーチの新品および再生されたReliant製品は、コンダクター膜、酸化膜、および金属エッチング アプリケーションにおいて低所有コストで、高信頼性、実証済みのソリューションを提供します。
RELIANTクリーン製品
Chemical Vapor Deposition (CVD) High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition (HDP-CVD) Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reliant Systems
ラムリサーチの新品および再生されたReliant製品は、フロントサイドならびにバックサイド/ベベルのクリーニングにおいて低所有コスト、高信頼性、実証済みのソリューションを提供します。
RELIANTデポジション製品
DRIE Reactive Ion Etch Reliant Systems
一新および再生されたReliant製品は、酸化膜アプリケーションにおいて低所有コスト(低いランニングコスト)、高信頼性、実証済みのソリューションを提供します。
SENSE.I製品
Atomic Layer Etch (ALE) DRIE
私たちの最新エッチング装置のプラットフォームは、最高の生産性でプロセスパフォーマンスを提供するコンパクトで高密度のアーキテクチャで比類のないシステムインテリジェンスを実現します。
SOLA シリーズ製品
Ultraviolet Thermal Processing (UVTP)
このシリーズ製品は、高度な膜アプリケーションの物理的特性を向上させる特殊な成膜後のトリートメント機能を提供します。
SPEED シリーズ製品
High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition (HDP-CVD)
これらの酸化膜成膜製品は、業界最高のスループットと信頼性を備えた高アスペクト比スペースの完全なギャップフィル機能を提供します。
STRIKER シリーズ製品
Atomic Layer Deposition (ALD)
高度なALD技術を活用することにより、これらの製品はナノスケールの機能を備えた高度なデバイスのクリティカルプロセスに対して優れた制御性能を実現する酸化膜を提供します。
VECTOR シリーズ製品
Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)
ラムリサーチ社のPECVD製品ファミリーは、幅広いデバイスアプリケーションに対応した高い生産性の精密な酸化膜成膜を提供します。
高選択エッチング製品群
Selective Etch 選択エッチング
画期的なポートフォリオにより、3D アーキテクチャ、先端ロジックおよびファウンドリ用途向けに、0.1nm スケールの精度と超高選択性で等方的材料除去を実現します。