Reliant 系統 化學氣相沉積(CVD) 脈衝雷射沉積(PLD) 電漿輔助化學氣相沉積(PECVD) 高密度電漿化學氣相沉積(HDP-CVD)
我們的 Reliant 沉積產品可實現特殊製程藍圖,並延長晶圓廠的生產壽命。
Reliant 系統 反應離子蝕刻(RIE) 深反應離子蝕刻(DRIE)
我們的 Reliant 蝕刻產品可實現特殊製程藍圖,並延長晶圓廠的生產壽命。
電化學沉積 (ECD)
此系列產品可在生產力領先業界的ECD平台上提供銅鑲嵌(damascene)製程所需的精密金屬電鍍功能。
Semiconductor Process Modeling
SEMulator3D® is a semiconductor process modeling platform that offers wide ranging technology development capabilities.
Deep Reactive Ion Etch (DRIE) 反應離子蝕刻(RIE)
採用緊湊、高密度的結構設計,Lam Research突破性的Sense.i™平台具備無與倫比的系統智慧,能以最高生產力實現製程效能。
高密度電漿化學氣相沉積(HDP-CVD)
這些介電層沉積產品可為高深寬比間隔提供完整的間隙填充,並具備業界領先的生產量與可靠度。
Atomic Layer Deposition (ALD)
利用先進的ALD技術,這些產品可為介電層薄膜提供優異的控制能力,以建構關鍵製程中具備奈米級結構的先進元件。
濕式清洗/光阻去除/蝕刻 電化學沉積 (ECD)
Triton 平台是用於單晶圓電鍍和濕式製程的多功能模組化解決方案。
反應離子蝕刻(RIE)
專為Sense.i平台所設計,Vantex透過技術創新和Equipment Intelligence 重新定義了高深寬比蝕刻。
電漿輔助化學氣相沉積(PECVD)
Lam Research的 PECVD產品能以高生產力為各種元件應用提供精密的介電層薄膜沉積。