我们的产品

助力芯片制造商创造未来

从移动电话和计算设备,到娱乐系统和日益“智能化”的汽车,我们每天使用的许多大家熟悉的产品中都装有先进的微芯片。 电子产品无处不在,没有它们的生活是不可想象的。

制造这些设备中使用的微小而复杂的芯片涉及到一系列核心工序,具体分为数百个步骤。 为了实现顺利生产,半导体制造商需要先进的工艺和制造设备。

我们与客户密切合作,为助力他们的成功提供所需的产品和技术。 通过提供关键的芯片处理能力,我们的产品在最新电子设备的前瞻性设计与生产这些设备的公司之间建立了重要的联系。


Product image for 选择性刻蚀产品系列

选择性刻蚀产品系列

选择性刻蚀

突破性产品组合以埃米级精度和超高选择性为 3D 架构和先进逻辑和晶圆代工应用提供各向同性的材料去除。

Product image for Akara®

Akara®

导体刻蚀

Akara® 旨在实现具有最大工艺良率的大批量生产,可提高晶圆产量并消除时间浪费,其对任何变化的响应时间均为毫秒级。 行业最先进的刻蚀均匀性控制可提供埃米级关键尺寸下的均匀性和晶圆间可重复性。

Product image for ALTUS系列产品

ALTUS系列产品

MEM/SIoT 设计自动化化学气相沉积(CVD)原子层沉积(ALD)

结合化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)技术,这些领先市场的设备可为先进的钨金属化应用沉积出所需之高度均匀一致的(conformal)薄膜。

Product image for CORONUS产品系列

CORONUS产品系列

等离子体边缘刻蚀与沉积

Coronus 产品专注于晶圆边缘的处理,以提高产品良率。半导体工艺会导致残留物和粗糙度沿着晶圆边缘积聚,并且它们可能会剥落、漂移到其它区域并产生导致器件失效的缺陷。Coronus 刻蚀产品可去除晶圆边缘残留物,Coronus 沉积产品可保护晶圆边缘不受损害。

Product image for Dextro™

Dextro™

清洗维护自动化

Dextro 是一个带有机械臂的移动装置,其使用各种末端执行器作为手来完成关键的设备维护任务,而这些任务在人为手动完成时非常耗时且容易出错。 由晶圆厂技术人员或工程师操作的 Dextro 可执行复杂的维护任务,其精度和可重复性是仅人类所无法达成的,这可提高设备的正常运行时间和制造良率。

Product image for DSiE Product Family

DSiE Product Family

深反应离子刻蚀(DRIE)

这些产品为若干关键和非关键深硅刻蚀应用提供了高生产率的特殊工艺控制。

Product image for DV-PRIME和DA VINCI产品

DV-PRIME和DA VINCI产品

湿法清洗

这些产品提供了所需的工艺灵活性和高生产率,以解决整个制造过程中的多个晶片清洗步骤。

Product image for EOS产品系列

EOS产品系列

湿法清洗

在越来越严苛的应用需求下,Lam的先进湿清洗产品能够在确保高产量的前提下实现极低的晶片缺陷率。

Product image for Fabtex™ Yield Optimizer

Fabtex™ Yield Optimizer

半导体良率优化平台

Fabtex™ Yield Optimizer is a cutting-edge software platform designed to help semiconductor foundries accelerate yield ramp and improve high-volume manufacturing performance.

Product image for FLEX产品系列

FLEX产品系列

反应离子刻蚀(RIE)深冷刻蚀

Lam的介电刻蚀设备能够刻蚀各种具有挑战性的结构,以应用在先进器件上。

Product image for GAMMA Product Family

GAMMA Product Family

干法剥离

这些产品提供了去除各类关键步骤的光刻胶所需的工艺灵活性。

Product image for Kallisto 产品系列

Kallisto 产品系列

电化学沉积(ECD)

先进的立式加工平台,用于对 300×300 毫米 至 5.1 代(1100×1300 毫米)的基板进行湿法化学制备,以满足半工业的需求。

Product image for KIYO产品系列

KIYO产品系列

反应离子刻蚀(RIE)

Lam市场领先的导体刻蚀产品能够为关键器件在保障高生产率的前提下提供所需的高精度和控制。

Product image for METRYX产品系列

METRYX产品系列

质量计量

Lam的质量计量系统为先进的工艺监测和三维设备结构控制提供了微克级别的测量能力。

Product image for OverViz

OverViz

等离子体建模

OverViz™ 是一个用于等离子体放电高保真建模的工业仿真软件平台。

Product image for Phoenix 产品系列

Phoenix 产品系列

光刻胶剥离光刻胶显影湿法清洗/剥离电化学沉积(ECD)

Phoenix 可为 510×515 毫米的基板提供全自动大批量面板加工。

Product image for Prestis™

Prestis™

脉冲激光沉积(PLD)

我们的 Prestis™ 产品为特色工艺应用领域的各种复杂多元素材料提供了薄膜沉积解决方案。

Product image for Reliant 清洗产品

Reliant 清洗产品

湿法清洗/剥离瑞莱恩特系统

我们的 Reliant 清洗产品可实现特色工艺路线图,并延长晶圆厂的生产设备利用年限。

Product image for Reliant 沉积产品

Reliant 沉积产品

MEM/SIoT 设计自动化化学气相沉积(CVD)瑞莱恩特系统等离子体增强化学气相沉积(PECVD)脉冲激光沉积(PLD)高密度等离子体化学气相沉积(HDP-CVD)

我们的 Reliant 沉积产品可实现特色工艺路线图,并延长晶圆厂的生产设备利用年限。

Product image for Reliant 刻蚀产品

Reliant 刻蚀产品

反应离子刻蚀(RIE)深反应离子刻蚀(DRIE)瑞莱恩特系统

我们的 Reliant 刻蚀产品可实现特色工艺路线图,并延长晶圆厂的生产设备利用年限。

Product image for SABRE产品系列

SABRE产品系列

电化学沉积(ECD)

该产品系列广泛应用于大马士革工艺上,提供精密的金属铜电镀。

Product image for SABRE 3D产品系列

SABRE 3D产品系列

电化学沉积(ECD)

该产品系列广泛应用于大马士革工艺上,提供精密的金属铜电镀。

Product image for Semiverse™ 解决方案

Semiverse™ 解决方案

半导体工艺建模等离子体建模

我们的半导体工艺建模软件 SEMulator3D® 可对刻蚀、沉积和其他集成工艺进行预测建模,以便在制造前发现问题。 VizGlow™ 是一种用于非平衡等离子体放电高保真建模的仿真平台。

Product image for SEMulator3D

SEMulator3D

半导体工艺建模

SEMulator3D® is a semiconductor process modeling platform that offers wide ranging technology development capabilities.

Product image for SENSE.I产品系列

SENSE.I产品系列

反应离子刻蚀(RIE)深反应离子刻蚀(DRIE)

泛林集团最新推出的刻蚀产品系列,以其既小巧又高精度的架构打造了独一无二的的智能系统,以提供超高产率的处理性能。

Product image for SOLA产品系列

SOLA产品系列

紫外热处理(UVTP)

该产品系列提供专门的沉积薄膜后处理,以改善先进薄膜应用的物理特性。

Product image for SP系列产品

SP系列产品

湿法清洗

这些经过验证的产品系列可提供可靠的、成本效益高的湿清洗/湿刻蚀解决方案,可温和地去除晶片上不需要的材料。

Product image for SPEED产品系列

SPEED产品系列

高密度等离子体化学气相沉积(HDP-CVD)

这些介电质沉积产品提供高深宽比空间的完全间隙填充,具有行业领先的产量和可靠性。

Product image for STRIKER产品系列

STRIKER产品系列

原子层沉积(ALD)

使用先进的ALD技术,这些产品提供纳米级尺寸下器件关键工艺所需的介电薄膜。

Product image for Syndion 产品系列

Syndion 产品系列

反应离子刻蚀(RIE)深反应离子刻蚀(DRIE)

对于深刻蚀应用,此产品系列提供了关键高纵横比特征所需的卓越的跨晶片均匀性控制。

Product image for Triton 产品系列

Triton 产品系列

湿法清洗/剥离电化学沉积(ECD)

Triton 平台是用于单晶圆电镀和湿法工艺的多功能模块化解决方案。

Product image for Vantex产品系列

Vantex产品系列

反应离子刻蚀(RIE)

Vantex专为Sense.i平台设计,通过技术和Equipment Intelligence(设备智能)的创新,重新定义高深宽比刻蚀。

Product image for VECTOR产品系列

VECTOR产品系列

等离子体增强化学气相沉积(PECVD)

Lam的PECVD产品系列为广泛的器件应用提供了高生产率的精密介电薄膜沉积。

Product image for VERSYS METAL产品系列

VERSYS METAL产品系列

反应离子刻蚀(RIE)

这些金属刻蚀产品为电互连和金属硬掩模应用提供了高生产率的极佳工艺控制。

什么都没有...