Solution: トランジスタ

RELIANT システムウェットクリーニング/ストリップ/エッチング

ラムリサーチの RELIANTクリーニング製品は、スペシャルティ・テクノロジーのロードマップを実現し、ファブの生産寿命を延ばします。

RELIANT システムディープリアクティブ・イオンエッチング（DRIE）リアクティブ・イオンエッチング（RIE）

当社の RELIANT エッチング製品は、スペシャルティ・テクノロジーのロードマップを実現し、ファブの生産寿命を延ばします。

RELIANT システムパルスレーザー堆積（PLD）プラズマ化学気相成長（PECVD）化学気相成長（CVD）高密度プラズマ化学気相成長（HDP-CVD）

RELIANT 成膜製品は、スペシャルティ・テクノロジーのロードマップを実現し、ファブの生産寿命を延ばします。

Semiconductor Process Modeling

SEMulator3D^® is a semiconductor process modeling platform that offers wide ranging technology development capabilities.

Atomic Layer Etch (ALE) ディープリアクティブ・イオンエッチング（DRIE）

私たちの最新エッチング装置のプラットフォームは、最高の生産性でプロセスパフォーマンスを提供するコンパクトで高密度のアーキテクチャで比類のないシステムインテリジェンスを実現します。

Ultraviolet Thermal Processing (UVTP)

このシリーズ製品は、高度な膜アプリケーションの物理的特性を向上させる特殊な成膜後のトリートメント機能を提供します。

高密度プラズマ化学気相成長（HDP-CVD）

これらの酸化膜成膜製品は、業界最高のスループットと信頼性を備えた高アスペクト比スペースの完全なギャップフィル機能を提供します。

Atomic Layer Deposition (ALD)

高度なALD技術を活用することにより、これらの製品はナノスケールの機能を備えた高度なデバイスのクリティカルプロセスに対して優れた制御性能を実現する酸化膜を提供します。

プラズマ化学気相成長（PECVD）

ラムリサーチ社のPECVD製品ファミリーは、幅広いデバイスアプリケーションに対応した高い生産性の精密な酸化膜成膜を提供します。

Selective Etch 選択エッチング

画期的なポートフォリオにより、3D アーキテクチャ、先端ロジックおよびファウンドリ用途向けに、0.1nm スケールの精度と超高選択性で等方的材料除去を実現します。